[發明專利]一種實現TVS芯片WLCSP六面塑封的結構及工藝在審
| 申請號: | 201710118709.5 | 申請日: | 2017-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN107068628A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | 吳昊;余曉明 | 申請(專利權)人: | 上海長園維安微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/31 | 分類號: | H01L23/31;H01L23/498;H01L21/48;H01L21/56 |
| 代理公司: | 上海諾衣知識產權代理事務所(普通合伙)31298 | 代理人: | 韓國輝 |
| 地址: | 201202 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 實現 tvs 芯片 wlcsp 塑封 結構 工藝 | ||
技術領域
本發明涉及半導體封裝技術領域,具體涉及一種用于超小封裝TVS產品的WLCSP六面塑封的結構及工藝。
背景技術
WLCSP(晶圓片級芯片規模封裝)技術作為一種新型的封裝技術,已經在很多產品中實現了量產。該工藝的最大特點是不需要lead frame來固定芯片,也不需要wire bonding等連接手段。而是直接在wafer level上工藝pillar,pillar的材質可以是金、銅或者合金材料等。然后通過wafer sort直接實現芯片編測。
與傳統的封裝工藝相比,WLCSP工藝有工藝流程簡單、步驟少、成本低、生產效率高等優勢。特別是不需要使用lead frame,所以芯片尺寸和形狀可以有更大的自由度,便于實現傳統封裝難以實現的超高性能。
常規的WLCSP封裝一般不在產品中使用塑封保護,或者只是在封裝體的上下兩個表面使用塑封保護。很難實現在側邊絕緣保護。然而,在超小封裝TVS產品中,比如DFN1006、DFN0603甚至是DFN0402的應用中,發現在SMT貼片生產時,由于大多數SMT設備對于焊料的控制精度問題,以及機械手臂或者人工抓取芯片時的控制精度問題,導致焊料有可能對于芯片側邊造成污染,進而導致電子產品的短路等嚴重的情況出現,并且影響電子產品的可靠性。
發明內容
本發明的目的是基于領先的WLCSP技術,以及TVS芯片的工藝特點,創造性地提出一種實現TVS芯片WLCSP六面塑封的結構及工藝。
本發明的技術方案是:
一種實現TVS芯片WLCSP六面塑封的結構,包括晶圓層,所述晶圓層的一側面上制備有金屬凸點,取相鄰金屬凸點作為一對,所述晶圓上每一對金屬凸點的四周切割有空隙,所述空隙為具有長方形截面的溝槽,空隙的深度不大于所述晶圓層的高度。
上述結構用于實現超小封裝TVS產品的六面塑封工藝,其所得TVS封裝體的六個面都可以實現有效的絕緣封裝,該工藝的步驟如下:
(1)與常規的WLCSP工藝一樣,首先在晶圓正面完成金屬凸點制備(pillar工藝);
(2)按照最終TVS產品的結構對晶圓進行切割制備空隙,切割時控制空隙的深度,不能將晶圓切透;
以上步驟即可得到前述用于實現WLCSP六面塑封的TVS芯片結構,接著進行第(3)步:
(3)從晶圓正面向下完成第一次塑封(molding compound),覆蓋步驟(2)切割所得到的空隙;
(4)從晶圓正面進行晶圓減薄(wafer grind),保證電極露出來;如果需要電極高于塑封表面,在金屬凸點出進行一次植球或者鍍層工藝;
(5)從晶圓背面進行晶圓減薄,減薄至最終TVS產品的尺寸要求;
(6)對晶圓背面進行塑封,完成對晶圓背面的保護;
(7)沿著步驟(2)制備的空隙的中心進行切割,割透,完成芯片的分離。
然后對芯片進行測試和編帶等后續包裝,這樣就完成封測的全部工藝。
本發明的關鍵在于TVS芯片設計時必須要按照成品pin腳的尺寸和位置要求來設計。工藝中用到兩次wafer切割,第一次需要遠大于第二次的寬度,以保障側邊絕緣保護的厚度要求。
本發明工藝流程相對簡單,而且工藝控制要求不高,成本相對較低。性能方面,由于芯片尺寸幾乎與最終的成品尺寸一致,所以設計人員可以有更多的空間來提升產品性能。這一點特別對于廣泛應用于消費類產品的TVS產品尤其重要。另外,由于兩次wafer grind,特別是第二次wafer grind時,wafer正面已經完成塑封,有足夠的機械支撐,所以有可能將成品的厚度控制得特別薄。這在超薄的電子設備應用中特別有意義。
附圖說明
圖1為TVS芯片的一種內部電路原理圖。
圖2為TVS芯片的一種外觀簡圖。
圖3為晶圓截面示意圖。
圖4為完成金屬凸點制備的晶圓。
圖5為本發明的實現TVS芯片WLCSP六面塑封的結構的示意圖。
圖6為完成了正面塑封的本發明結構的示意圖。
圖7為圖6結構完成正面晶圓減薄時的結構。
圖8為圖7結構完成背面晶圓減薄時的結構。
圖9為圖8結構完成背面塑封時的結構。
圖10為圖9結構進行分離的示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖詳細說明本發明的技術方案。
如圖3所示為晶圓100的截面圖,金屬區域110為晶圓正面作為電極的區域;
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