[發明專利]一種電化學拋光方法及石墨烯薄膜制備方法

在審

• 申請號: 201710118005.8
• 申請日: 2017-03-01
• 公開（公告）號: CN107119313A
• 公開（公告）日: 2017-09-01
• 發明（設計）人: 張志勇;陳誠;閆軍鋒;趙武;許曼章;王英楠;劉成
• 申請（專利權）人: 西北大學
• 主分類號: C25F7/00
• 分類號: C25F7/00;C25F3/22;C23C14/02;C23C14/06
• 代理公司: 西安恒泰知識產權代理事務所61216
• 代理人: 李婷

1.一種電化學拋光方法，所述方法包括以待拋光襯底為陽極，以不溶性金屬為陰極，通電攪拌進行電解，其特征在于，電解采用的電解液包括磷酸、硫酸、去離子水和聚乙二醇的混合液。

2.如權利要求1所述方法，其特征在于，電解液包括體積百分比為30％-35％磷酸、20％-25％硫酸、20％-30％去離子水及15％-20％聚乙二醇，體積百分比之和為100％。

3.如權利要求1所述方法，其特征在于，電解液包括體積百分比為30％磷酸、20％硫酸、30％去離子水及20％聚乙二醇。

4.如權利要求1所述方法，其特征在于，所述待拋光襯底包括Cu，Cu襯底電解時直流電壓為0.4-0.6V，時間為8-12min。

5.如權利要求1所述方法，其特征在于，所述待拋光襯底包括Ni，Ni襯底電解時直流電壓為18-22V，時間為4-6min。

6.如權利要求4或5所述方法，其特征在于，Cu或Ni襯底電解時陰、陽極間距為4-5cm。

7.如權利要求4或5所述方法，其特征在于，Cu或Ni電解時攪拌速度為100-150r/min，溫度為25-30℃。

8.一種電化學拋光平臺，其特征在于，所述電化學拋光平臺包括直流電源、電解容器及攪拌器；直流電源提供電解時的直流電，電解容器盛裝電解液并進行電解拋光，攪拌器用于提供電解時的轉速及電解溫度；電解采用包括權利要求1-3任一所述電解液。

9.一種石墨烯薄膜的制備方法，采用磁控濺射法，其特征在于，采用權利要求4或5所述方法對Cu或Ni襯底進行電化學拋光后放入磁控濺射設備中制備。

10.如權利要求9所述制備方法，其特征在于，磁控濺射的腔室溫度為800-1000℃，腔體內部壓力為0.5Toor。