[發明專利]印刷基板用曝光裝置

有效

• 申請號: 201710117232.9
• 申請日: 2017-03-01
• 公開（公告）號: CN107148152B
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發明（設計）人: 原貴之
• 申請（專利權）人: 優志旺電機株式會社
• 主分類號: H05K3/06
• 分類號: H05K3/06;G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

不會利用將基板吸附于基臺的真空吸附力或將基板暴露于真空中、就而能夠將基板的周邊部向基臺按壓，使得對于厚度不同的基板也能夠容易地對應。在基板(S)通過真空吸附機構(3)而被吸附到基臺(1)時，設置在不遮擋曝光的形狀的框體(61)上的一對周狀封固部件(62)與基臺(1)抵接，所形成的密閉空間通過框體用排氣孔(13)被排氣，從而框體(61)被朝向基臺(1)按壓。其結果，以基板(S)的周邊部被按壓于基臺(1)、基板(S)的變形被矯正的狀態，通過曝光系統(2)將基板(S)曝光。

技術領域

本申請的發明涉及印刷基板制造用的曝光裝置，特別涉及具備一邊糾正基板的變形一邊進行曝光的功能的曝光裝置。

背景技術

印刷基板搭載于便攜電話或個人計算機等電子設備中。這些電子設備為了進行小型輕量化，要求提高形成在基板上的圖案的集成度，電路要素和圖案的微細化得到進展。

在進行圖案向印刷基板的形成的光刻法中，存在對于涂敷在基板上的抗蝕劑而形成電路圖案等規定的圖案的曝光工序，使用了曝光裝置。曝光裝置為了在基板的規定的位置進行電路圖案等規定的圖案的轉印，需要將基板相對于進行曝光的光學系統配置在正確的位置。因此，采用在相對于光學系統設置的基臺(table)上的規定的位置處載置基板、并在曝光中以保持該位置的方式將基板真空吸附到基臺上的機構。

專利文獻

專利文獻1

日本特開2009－109553號公報

專利文獻2

日本特開2011－81156號公報

專利文獻3

日本專利4589198號公報

發明內容

在采用了上述那樣的將基板真空吸附到基臺上的機構的印刷基板用曝光裝置中，要求即使對于發生了翹曲或應變這樣的變形的基板也正確地進行曝光。基板的翹曲或應變這樣的變形因幾個要因而發生。其一，可以舉出為了電子設備的小型輕量化而采用非常薄的基板。由聚酰亞胺、聚酯等形成的較薄的柔性基板存在容易受到前工序中的熱處理的影響、若從橫向觀察則彎曲或像波浪那樣彎曲的情況。并且，即使是像環氧玻璃那樣的剛性基板的情況，在基板為多層構造的情況下，也由于原料間的熱膨脹系數的不同等而隨著重復用于層疊的處理容易在基板的周邊部發生翹曲或應變。

在使用曝光裝置的用戶的角度，期望的是，即使是如此產生變形的基板，也想要將電路圖案等規定的圖案曝光。

在對上述那樣的變形后的基板的曝光中成為問題的是，真空吸附的錯誤。這是在使變形后的基板載置于基臺而進行真空吸附的情況下，在變形的部位出現真空泄露，因此變得不能充分地吸附的錯誤。若產生吸附錯誤，則有在曝光中基板發生錯位的情況，所以通常，裝置的動作停止，曝光處理被中斷。

由此，提出了幾個在真空吸附時將基板按壓在基臺上的技術。其中，專利文獻1公開了在基板被真空吸附時成為以包圍基板的方式配置襯墊的狀態、并利用襯墊成為密閉空間而使密閉空間內抽真空的構造。在該構造中，將基板按壓在基臺上的機構在曝光時被卸除，因此翹曲的彈性較強的基板有在曝光時發生真空吸附錯誤的情況。并且，由于基板被直接曝露在真空中，所以在基板的表面設有保護膜的情況下，也考慮其剝離或在保護膜的內側產生氣泡。

并且，專利文獻2中公開了以將被真空吸附的基板的周邊部覆蓋的狀態配置基板固定片(聚酯片)，通過基板的真空吸附時的吸引力來使該片彈性變形的技術。該構造需要按照基板的形狀來設計夾緊機構，為了使其與多種基板尺寸相對應，需要在曝光基臺上單獨設計夾緊機構，使得成本提高。并且，基板的尺寸不同的情況下需要進行片的更換，但專利文獻2 的片被機械地夾緊，因此更換不容易。

進而，可以認為由于基板被暴露在真空中，因此產生與上述相同的問題。