[發(fā)明專利]光掩模的制造方法、光掩模和顯示裝置的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710112538.5
• 申請(qǐng)日: 2017-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN107844026A
• 公開（公告）日: 2018-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金臺(tái)勛;李錫薰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/70
• 分類號(hào): G03F1/70;G03F1/32
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 龐東成,孟偉青

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于制造電子器件的光掩模，特別是在以液晶面板、有機(jī)EL(電致發(fā)光)面板為代表的顯示裝置(平板顯示器)的制造中有用的光掩模及其制造方法、以及使用了該光掩模的顯示裝置的制造方法。

背景技術(shù)

專利文獻(xiàn)1中記載了關(guān)于多灰度光掩模的技術(shù)，該多灰度光掩模在透明基板上形成有包含遮光部、半透光部和透光部的轉(zhuǎn)印用圖案，能夠在被轉(zhuǎn)印體上形成具有陡峭的豎立形狀的抗蝕劑圖案

圖6是示出專利文獻(xiàn)1中記載的多灰度光掩模的構(gòu)成的側(cè)剖視圖。

該多灰度光掩模200具備包含遮光部110、半透光部115和透光部120的轉(zhuǎn)印用圖案。遮光部110通過在透明基板100上依次層疊半透光膜101、相移調(diào)整膜102、和遮光膜103而成。半透光部115通過在透明基板100上形成半透光膜101而成。透光部120通過透明基板100露出而成。在遮光部110與透光部120的邊界形成有半透光膜101上的相移調(diào)整膜102部分露出而成的第1移相器部111，在遮光部110與半透光部115的邊界形成有半透光膜101上的相移調(diào)整膜102部分露出而成的第2移相器部112。

在上述的多灰度光掩模200中，透過透光部120的曝光光和透過第1移相器部111的曝光光發(fā)生干涉，并且，透過半透光部115的曝光光和透過第2移相器部112的曝光光發(fā)生干涉。由此，邊界部分的曝光光相互消除。因此，能夠使在被轉(zhuǎn)印體上形成的抗蝕劑圖案的側(cè)壁為陡峭的豎立形狀。

圖7是示出專利文獻(xiàn)1中記載的多灰度光掩模的制造工序的側(cè)剖視圖。

(光掩模坯準(zhǔn)備工序)

首先，準(zhǔn)備光掩模坯20，該光掩模坯20中，在透明基板100上依次形成有半透光膜101、相移調(diào)整膜102、遮光膜103，在最上層形成有第1抗蝕劑膜104(圖7(a))。

(第1抗蝕劑圖案形成工序)

接著，對(duì)光掩模坯20實(shí)施繪圖、顯影，形成覆蓋遮光部110(圖6)的形成區(qū)域的第1抗蝕劑圖案104p。

(第1蝕刻工序)

接著，將第1抗蝕劑圖案104p作為掩模，對(duì)遮光膜103進(jìn)行蝕刻，形成遮光膜圖案103p(圖7(b))。

(第2抗蝕劑膜形成工序)

接著，將第1抗蝕劑圖案104p除去，之后在具有遮光膜圖案103p和露出的相移調(diào)整膜102的光掩模坯20上的整個(gè)面形成第2抗蝕劑膜105。

(第2抗蝕劑圖案形成工序)

接著，對(duì)第2抗蝕劑膜105進(jìn)行繪圖、顯影，形成分別覆蓋遮光部110的形成區(qū)域、位于遮光部110與透光部120的邊界部分的第1移相器部111的形成區(qū)域、和位于遮光部110與半透光部115的邊界部分的第2移相器部112的形成區(qū)域的第2抗蝕劑圖案105p(圖6、圖7(c))。

(第2蝕刻工序)

接著，將第2抗蝕劑圖案105p作為掩模，對(duì)相移調(diào)整膜102進(jìn)行蝕刻而形成相移調(diào)整膜圖案102p，并且形成半透光部115、第1移相器部111和第2移相器部112(圖6、圖7(d))。

(第3抗蝕劑膜形成工序)

接著，將第2抗蝕劑圖案105p除去，之后在具有遮光膜圖案103p、相移調(diào)整膜圖案102p、露出的半透光膜101的光掩模坯20上的整個(gè)面形成第3抗蝕劑膜106。

(第3抗蝕劑圖案形成工序)

接著，對(duì)第3抗蝕劑膜106進(jìn)行繪圖、顯影，形成覆蓋除透光部120的形成區(qū)域以外的區(qū)域的第3抗蝕劑圖案106p(圖7(e))。

(第3蝕刻工序)

接著，將第3抗蝕劑圖案106p作為掩模，對(duì)半透光膜101進(jìn)行蝕刻而形成半透光膜圖案101p，并且使透明基板100部分露出而形成透光部120(圖6、圖7(f))。

(第3抗蝕劑圖案除去工序)

接著，將第3抗蝕劑圖案106p除去，完成多灰度光掩模200的制造(圖7(g))。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2011-215614號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題