[發(fā)明專(zhuān)利]氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr3薄膜及其應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710088364.3
• 申請(qǐng)日: 2017-02-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106847955B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 臧志剛;李存龍;韓層;唐孝生
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 重慶大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): H01L31/032
• 分類(lèi)號(hào): H01L31/032;H01L31/18;H01S5/30
• 代理公司: 北京同恒源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275
• 代理人: 趙榮之

1.一種氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr₃薄膜，其特征在于，由一步法或兩步法中的一種方法制備；

所述一步法具體為：將氧化鋅納米顆粒加入CsPbBr₃前驅(qū)液中至所述氧化鋅納米顆粒均勻分散于所述CsPbBr₃前驅(qū)液中，再將含有氧化鋅納米顆粒的CsPbBr₃前驅(qū)液旋涂于基底上，退火處理后，制得氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr₃薄膜；所述含有氧化鋅納米顆粒的CsPbBr₃前驅(qū)液中氧化鋅納米顆粒的濃度為60-180mg/mL；所述退火處理具體為在60-100℃下加熱0.5-10h；

所述兩步法具體為：將氧化鋅納米顆粒加入PbBr₂溶液中至所述氧化鋅納米顆粒均勻分散于所述PbBr₂溶液中，再將含有氧化鋅納米顆粒的PbBr₂溶液旋涂于基底上，在60-100℃下加熱0.5-10h退火處理后，制得氧化鋅納米顆粒修飾的PbBr₂薄膜；將所述氧化鋅納米顆粒修飾的PbBr₂薄膜浸入CsBr溶液中5min-10h，取出所述氧化鋅納米顆粒修飾的PbBr₂薄膜170-250℃下加熱10-30min進(jìn)行退火處理，制得氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr₃薄膜；所述含有氧化鋅納米顆粒的PbBr₂溶液中氧化鋅納米顆粒與PbBr₂的摩爾比為1:10-3。

2.如權(quán)利要求1所述的一種氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr₃薄膜，其特征在于，一步法中，所述CsPbBr₃前驅(qū)液的制備方法具體為：按摩爾比為1:1將CsBr粉末、PbBr₂粉末加入二甲基亞砜中混勻制得CsPbBr₃前驅(qū)液。

3.如權(quán)利要求1所述的一種氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr₃薄膜，其特征在于，兩步法中，所述CsBr溶液的濃度為10-70mg/mL。

4.由1-3任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的一種氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr₃薄膜在微激光器中的應(yīng)用。

5.如權(quán)利要求4所述的應(yīng)用，其特征在于，所述微激光器包括基底層和包覆層，所述基底層和包覆層之間設(shè)置有氧化鋅納米顆粒修飾的鈣鈦礦CsPbBr₃薄膜，所述基底層的材料為玻璃或硅中的一種，所述包覆層的材料為聚甲基丙烯酸甲酯或二氧化硅中的一種。