[發明專利]一種靜態代碼質量分析方法和裝置

有效

• 申請號: 201710081777.9
• 申請日: 2017-02-15
• 公開（公告）號: CN108446213B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 彭飛
• 申請（專利權）人: 西門子公司
• 主分類號: G06F11/36
• 分類號: G06F11/36;G06F8/30
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 趙冬梅

1.靜態代碼質量分析方法，其特征在于，包括：

基于至少一條第一代碼質量檢查規則，對待分析代碼采用模式匹配的方法進行質量分析，得到至少一條第一質量分析結果；

根據所述至少一條第一質量分析結果，確定所述待分析代碼的缺陷趨勢；

根據所述缺陷趨勢，確定至少一條第二代碼質量檢查規則；

基于所述至少一條第二代碼質量檢查規則，采用邏輯路徑的方法對所述待分析代碼進行質量分析，得到至少一條第二質量分析結果。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷趨勢包括至少一條缺陷，以及所述待分析代碼發生所述至少一條缺陷中的每一條缺陷的第一概率。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，

所述至少一條第一代碼質量檢查規則中的每一條對應于至少一種缺陷，符合該規則的代碼中出現該規則所對應的每一條缺陷的第二概率均大于預設的第二缺陷概率閾值；

在根據所述至少一條第一質量分析結果，預測得到所述待分析代碼的缺陷趨勢之前，還包括：對于所述至少一條第一代碼質量檢查規則所對應的每一種缺陷，

確定該缺陷所對應的所述至少一條代碼質量檢查規則中的每一條；

對于確定的每一條，得到所述至少一條第一質量分析結果中，符合該條代碼質量檢查規則的結果出現的第一次數；

根據得到的所有所述第一次數，得到該缺陷可能出現的第二次數；

根據得到的所有所述第二次數，預測所述待分析代碼出現該缺陷的所述第一概率。

4.如權利要求2或3所述的方法，其特征在于，根據所述缺陷趨勢，確定至少一條第二代碼質量檢查規則，包括：根據所述缺陷趨勢，以及下列因素中的至少一個，確定所述至少一條第二代碼質量檢查規則：

無缺陷的代碼在使用一條規則進行代碼質量分析時被誤判為存在缺陷的第三概率；

使用一條規則檢查缺陷時所使用的檢查算法對處理器的占用率。

5.靜態代碼質量分析裝置(30)，其特征在于，包括：

一個第一檢查模塊(301)，用于基于至少一條第一代碼質量檢查規則，對待分析代碼采用模式匹配的方法進行質量分析，得到至少一條第一質量分析結果；

一個趨勢確定模塊(302)，用于根據所述至少一條第一質量分析結果，確定所述待分析代碼的缺陷趨勢；

一個規則確定模塊(303)，用于根據所述缺陷趨勢，確定至少一條第二代碼質量檢查規則；

一個第二檢查模塊(304)，用于基于所述至少一條第二代碼質量檢查規則，采用基于邏輯路徑的方法對所述待分析代碼進行質量分析，得到至少一條第二質量分析結果。

6.如權利要求5所述的裝置(30)，其特征在于，所述趨勢確定模塊(302)所確定的所述缺陷趨勢包括至少一條缺陷，以及所述待分析代碼發生所述至少一條缺陷中的每一條缺陷的第一概率。

7.如權利要求6所述的裝置(30)，其特征在于，所述第一檢查模塊(301)所使用的所述至少一條第一代碼質量檢查規則中的每一條對應于至少一種缺陷，符合該規則的代碼中出現該規則所對應的每一條缺陷的第二概率均大于預設的第二缺陷概率閾值；

所述趨勢確定模塊(302)，還用于在根據所述至少一條第一質量分析結果，預測得到所述待分析代碼的缺陷趨勢之前，對于所述至少一條第一代碼質量檢查規則所對應的每一種缺陷，

確定該缺陷所對應的所述至少一條代碼質量檢查規則中的每一條；

對于確定的每一條，得到所述至少一條第一質量分析結果中，符合該條代碼質量檢查規則的結果出現的第一次數；

根據得到的所有所述第一次數，得到該缺陷可能出現的第二次數；

根據得到的所有所述第二次數，預測所述待分析代碼出現該缺陷的所述第一概率。