[發(fā)明專利]超聲裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710051976.5
• 申請日: 2017-01-23
• 公開（公告）號: CN107019494A
• 公開（公告）日: 2017-08-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 末平信人;正木文太郎;福谷和彥;宮里卓郎
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: A61B5/00
• 分類號: A61B5/00
• 代理公司: 北京怡豐知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11293
• 代理人: 遲軍

1.一種超聲裝置，包括：

換能器，接收超聲波并且將超聲波轉(zhuǎn)換為電信號；

平面超聲波生成構(gòu)件，包括光吸收構(gòu)件；

光照射部分，將脈沖光照射到平面超聲波生成構(gòu)件；

其中，關(guān)于對來自光照射部分的照射光的光吸收特性，平面超聲波生成構(gòu)件呈現(xiàn)出平面方向上的分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，其中，平面超聲波生成構(gòu)件呈現(xiàn)出以下光吸收特性的分布：該分布補償來自光照射部分的照明分布。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，其中，在平面方向上，照射光的照明分布和光吸收特性的分布彼此具有負相關(guān)性。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，其中，光吸收構(gòu)件被包括在平面超聲波生成構(gòu)件中以便具有如下濃度分布：該濃度分布形成小于照射光的強度分布的聲壓強度分布。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，還包括：

移動單元，移動在從光源發(fā)射的光的光路和平面超聲波生成構(gòu)件之間的相對位置，

其中在使用移動單元改變相對位置的情況下，在照射到照射區(qū)域的光的強度分布和照射區(qū)域的吸收系數(shù)的面內(nèi)分布之間的相對位置改變。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，

其中光吸收構(gòu)件生成超聲波，所述超聲波具有如下聲壓分布：在該聲壓分布中，強度波動小于照射到發(fā)送超聲波生成區(qū)域的光的強度分布。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，還包括

反射構(gòu)件，反射來自光源的光，

其中該反射構(gòu)件被設(shè)置在平面超聲波生成構(gòu)件周圍。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的超聲裝置，

其中反射構(gòu)件和平面超聲波生成構(gòu)件被設(shè)置在片狀構(gòu)件上，所述片狀構(gòu)件設(shè)置在光源和被檢體之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，

其中光吸收構(gòu)件小于照射區(qū)域。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的超聲裝置，

其中從光源發(fā)射的光入射到平面超聲波生成構(gòu)件和反射構(gòu)件上。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，

其中平面超聲波生成構(gòu)件的吸收系數(shù)分布是環(huán)形的。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲裝置，

其中平面超聲波生成構(gòu)件包括多個片狀構(gòu)件。