[發(fā)明專利]位移裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710039428.0 | 申請日: | 2017-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN108336884B | 公開(公告)日: | 2020-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 丁晨陽 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東極迅精密儀器有限公司 |
| 主分類號: | H02K41/03 | 分類號: | H02K41/03 |
| 代理公司: | 北京得信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11511 | 代理人: | 袁偉東 |
| 地址: | 528222 廣東省佛山市南海區(qū)獅山鎮(zhèn)南海*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 位移 裝置 | ||
1.一種位移裝置,其特征在于,
具有:
定子,其包括在第一平面內(nèi)配置的沿著第一方向線性延伸的第一線圈和沿第二方向線性延伸的第二線圈,所述第一線圈和所述第二線圈在與所述第一方向和所述第二方向大致正交的第三方向上重疊;以及
動(dòng)子平臺,其配置在與所述第一平面大致平行的第二平面內(nèi)并包括動(dòng)子磁體陣列,所述動(dòng)子磁體陣列的磁場與所述第一線圈和所述第二線圈相互作用而產(chǎn)生相對位移,所述動(dòng)子磁體陣列至少包括:
第一磁體子陣列,其包括由第一磁體周期性地在第二平面內(nèi)延伸配置而形成的、相互平行的多個(gè)第一磁體列,所述第一磁體的磁化方向均與所述第二平面大致垂直;
第二磁體子陣列,其包括由第二磁體周期性地在第二平面內(nèi)延伸配置而形成的、相互平行的多個(gè)第二磁體列,所述第二磁體的磁化方向均與所述第二平面大致垂直;和
第三磁體子陣列,其包括由第三磁體周期性地在第二平面內(nèi)延伸配置而形成的、相互平行的多個(gè)第三磁體列,所述第三磁體的磁化方向均與所述第二平面大致垂直,
與所述第一線圈的某一匝線圈導(dǎo)線在所述第三方向上重疊的所述第二磁體子陣列或所述第三磁體子陣列中存在磁化方向相反的磁體,以使得所述動(dòng)子平臺與所述定子相互作用產(chǎn)生繞所述第二方向的力矩和繞所述第三方向的力矩,
每個(gè)所述第二磁體列和每個(gè)所述第三磁體列在所述第二平面內(nèi)的延伸方向相對于所述第一方向傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位移裝置,其特征在于,
還具備:第四磁體子陣列,其包括由第四磁體周期性地在第二平面內(nèi)延伸配置而形成的、相互平行的多個(gè)第四磁體列,所述第四磁體的磁化方向均與所述第二平面大致垂直,
所述第一磁體子陣列和所述第四磁體子陣列在所述第二平面內(nèi)沿著所述第二方向離開一定距離而配置,所述第二磁體子陣列和所述第三磁體子陣列在由所述第一磁體子陣列和所述第四磁體子陣列離開一定距離配置而形成的間隔位置內(nèi)沿所述第一方向而配置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的位移裝置,其特征在于,
每個(gè)所述第一磁體列和每個(gè)所述第四磁體列在所述第二平面內(nèi)的延伸方向相對于所述第一方向傾斜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的位移裝置,其特征在于,
與所述第二線圈的某一匝線圈在所述第三方向上重疊的所述第一磁體、所述第二磁體、和所述第四磁體的磁化方向相同,與所述第二線圈的某一匝線圈在所述第三方向上重疊的所述第一磁體、所述第三磁體、和所述第四磁體的磁化方向相同,所述第二線圈的每匝相互串聯(lián)連接,其電流由一個(gè)驅(qū)動(dòng)器控制。
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