[發(fā)明專利]一種利用單質(zhì)子徑跡成像的中子能譜測(cè)量裝置及測(cè)量方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710007693.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106707328A | 公開(公告)日: | 2017-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡靜;歐陽(yáng)曉平;劉金良;張忠兵;阮金陸;何世熠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);西北核技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | G01T5/02 | 分類號(hào): | G01T5/02;G01T5/00 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司61211 | 代理人: | 倪金榮 |
| 地址: | 100084*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 質(zhì)子 徑跡 成像 中子 測(cè)量 裝置 測(cè)量方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及輻射探測(cè)中的中子能譜探測(cè)方法和技術(shù),具體涉及一種基于單質(zhì)子徑跡成像的中子能譜測(cè)量裝置及方法。
背景技術(shù)
中子能譜的測(cè)量在聚變等離子體診斷中占有極其重要的地位。中子作為核聚變反應(yīng)最直接的產(chǎn)物,攜帶了豐富的等離子體聚變過程和離子狀態(tài)的信息,從中子能譜能夠獲得聚變等離子溫度、體密度以及聚變功率等關(guān)鍵參數(shù),是檢驗(yàn)核聚變裝置是否達(dá)到設(shè)計(jì)要求最直接和最有效的方法,同時(shí)聚變等離子體診斷對(duì)中子能譜測(cè)量精度有很高的要求。目前,在聚變裝置上最常用的中子能譜測(cè)量方法是中子飛行時(shí)間法和反沖質(zhì)子磁分析法,但要求中子的產(chǎn)額在1011-1019才能工作。其他方法也要求中子產(chǎn)額至少1010。但在聚變點(diǎn)火試驗(yàn)失敗等情況下,聚變產(chǎn)生的中子產(chǎn)額較低,為了精確診斷這些情況下的聚變等離子溫度等參數(shù),用以評(píng)估聚變質(zhì)量,亟待發(fā)展高靈敏高分辨率的中子能譜測(cè)量方法。
文獻(xiàn)“用于脈沖中子能譜測(cè)量的質(zhì)子束光學(xué)成像方法研究[D].北京:清華大學(xué)工程物理系,2013”公開了一種用于脈沖中子能譜測(cè)量的質(zhì)子束光學(xué)成像方法。利用質(zhì)子束在氣體閃爍體中徑跡圖像反演出質(zhì)子能譜分布,然后根據(jù)反沖質(zhì)子法獲取中子能譜,但由質(zhì)子束徑跡圖像反演其能譜是個(gè)很困難的反問題,目前只是理論上行得通,而在實(shí)際實(shí)驗(yàn)中還沒得到有效解決。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:提供一種基于單質(zhì)子徑跡成像的高靈敏高分辨率中子能譜測(cè)量裝置及方法,用以解決現(xiàn)有聚變中子能譜測(cè)量方法靈敏度低以及實(shí)際實(shí)驗(yàn)中不能由質(zhì)子束徑跡反演中子能譜的問題。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:
一種利用單質(zhì)子徑跡成像的中子能譜測(cè)量裝置,其特殊之處在于:包括中子轉(zhuǎn)換體、質(zhì)子徑跡發(fā)光室、成像系統(tǒng)和電源;
所述中子轉(zhuǎn)換體包括中子源、中子-質(zhì)子轉(zhuǎn)換靶和光闌;
所述質(zhì)子徑跡發(fā)光室包括腔室,設(shè)置在腔室外一端的質(zhì)子入射密封窗口、設(shè)置在腔室內(nèi)的圓筒形多絲結(jié)構(gòu)、與腔室內(nèi)部連通的充氣系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)、設(shè)置在腔室外側(cè)的光學(xué)窗口、以及與所述圓筒形多絲結(jié)構(gòu)連接的電壓源;所述圓筒形多絲結(jié)構(gòu)由位于圓柱軸心的一根陽(yáng)極絲和分布在陽(yáng)極絲圓周的多根陰極絲組成;
所述中子源出射中子束經(jīng)過中子-質(zhì)子轉(zhuǎn)換靶的轉(zhuǎn)換變向后,穿過光闌和質(zhì)子入射密封窗口進(jìn)入腔室,所述成像系統(tǒng)由陽(yáng)極絲所收集的電荷信號(hào)控制成像,電源與圓筒形多絲結(jié)構(gòu)連接。
進(jìn)一步的,所述成像系統(tǒng)包括相機(jī)、相機(jī)控制系統(tǒng)、光學(xué)中繼系統(tǒng)及在線分析系統(tǒng);
所述光學(xué)中繼系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)腔室外側(cè)的光學(xué)窗口,在線分析系統(tǒng)與相機(jī)連接,相機(jī)控制系統(tǒng)一端與相機(jī)連接,另一端與圓筒形多絲結(jié)構(gòu)的陽(yáng)極絲連接。
進(jìn)一步的,所述相機(jī)控制系統(tǒng)與圓筒形多絲結(jié)構(gòu)之間連接有線性放大器。
進(jìn)一步的,所述中子源與中子-質(zhì)子轉(zhuǎn)換靶之間設(shè)置有中子準(zhǔn)直器,所述中子準(zhǔn)直器為帶準(zhǔn)直孔的鐵塊或鉛塊。
進(jìn)一步的,所述中子-質(zhì)子轉(zhuǎn)換靶為聚乙烯薄膜。
進(jìn)一步的,所述質(zhì)子入射密封窗口是由厚度為5-10μm的鈦、金或鉬金屬膜組成;所述圓筒形多絲結(jié)構(gòu)由中間一根陽(yáng)極絲和周圍10-20根均勻分布的陰極絲組成,陽(yáng)極絲直徑15-25μm,陽(yáng)極絲和陰極絲距離10-30mm。
進(jìn)一步的,所述充氣系統(tǒng)所充工作氣體為四氟化碳?xì)怏w或四氟化碳?xì)怏w與稀有氣體的混合氣體。
本發(fā)明還提供一種利用單質(zhì)子徑跡成像的中子能譜測(cè)量方法,其特殊之處在于:包括以下步驟:
1)獲取單個(gè)質(zhì)子的徑跡圖像:
1.1)中子束經(jīng)限束和準(zhǔn)直后,與中子-質(zhì)子轉(zhuǎn)換靶作用產(chǎn)生反沖質(zhì)子;
1.2)與中子束呈反沖角θ的反沖質(zhì)子平行于陽(yáng)極絲進(jìn)入充滿工作氣體的腔室;
1.3)給陽(yáng)極絲提供高壓,直至陽(yáng)極絲附近產(chǎn)生光子和電子;
1.4)腔室內(nèi)的陽(yáng)極絲收集所產(chǎn)生電荷信號(hào),經(jīng)放大后觸發(fā)相機(jī)自動(dòng)拍照,獲得單個(gè)質(zhì)子的徑跡熒光圖像;
2)重復(fù)步驟1)獲取多個(gè)單質(zhì)子徑跡圖像;
3)對(duì)獲取的圖像進(jìn)行處理和分析:
讀取每幅圖像中質(zhì)子徑跡末端位置的像素值,根據(jù)像素值與實(shí)際位置的線性關(guān)系,得到質(zhì)子射程;根據(jù)步驟2)中獲取的多個(gè)單質(zhì)子徑跡圖像,統(tǒng)計(jì)出質(zhì)子射程R的分布;
4)獲得質(zhì)子能譜分布:
通過SRIM軟件計(jì)算質(zhì)子在工作氣體中的射程R與初始能量Ep的對(duì)應(yīng)關(guān)系,并由所述步驟3)獲得的質(zhì)子射程分布反推質(zhì)子能譜分布;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué);西北核技術(shù)研究所,未經(jīng)清華大學(xué);西北核技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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