[發明專利]顯示基底、制造其的方法及包括其的顯示裝置有效
| 申請號: | 201710006654.9 | 申請日: | 2017-01-05 |
| 公開(公告)號: | CN107086233B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發明(設計)人: | 樸埈弘;李經憲;金智賢;樸廷敏;李政洙 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H10K59/38 | 分類號: | H10K59/38;H10K59/131;H10K71/00 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 劉燦強;尹淑梅 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 基底 制造 方法 包括 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基底,所述顯示基底包括:
基礎基底;
堆疊結構,在所述基礎基底上,所述堆疊結構包括有源圖案、柵電極和多個絕緣層;
多條布線,在所述堆疊結構上并且位于同一層;以及
多個彩色覆蓋圖案,在所述多條布線中的各條布線上,
其中,所述多條布線包括基于所述堆疊結構的區域的臺階,其中,通過所述多個彩色覆蓋圖案來使所述臺階平坦化。
2.根據權利要求1所述的顯示基底,其中,所述堆疊結構包括多個臺階部分,其中,所述多條布線包括距所述基礎基底具有不同高度的多個上表面。
3.根據權利要求2所述的顯示基底,其中,所述彩色覆蓋圖案分別包括距所述基礎基底具有相同距離的多個上表面。
4.根據權利要求1所述的顯示基底,其中,所述彩色覆蓋圖案由包括彩色材料的非光敏聚合物形成。
5.根據權利要求4所述的顯示基底,其中,所述彩色材料包括黑色材料或染料。
6.根據權利要求5所述的顯示基底,其中,所述染料被構造為吸收具有在從300nm到500nm范圍內的波長的光。
7.根據權利要求1所述的顯示基底,其中,所述多個絕緣層包括:
阻擋層,在所述基礎基底的頂表面上;
柵極絕緣層,在所述阻擋層上,所述柵極絕緣層覆蓋所述有源圖案;以及
絕緣層間層,在所述柵極絕緣層上,所述絕緣層間層覆蓋所述柵電極。
8.根據權利要求7所述的顯示基底,其中,所述柵電極包括在所述顯示基底的厚度方向上彼此疊置的第一柵電極和第二柵電極,
其中,所述柵極絕緣層包括:第一柵極絕緣層,置于所述有源圖案與所述第一柵電極之間;第二柵極絕緣層,置于所述第一柵電極與所述第二柵電極之間。
9.根據權利要求8所述的顯示基底,其中,所述多條布線的與所述有源圖案、所述第一柵電極和所述第二柵電極在所述堆疊結構的所述厚度方向上疊置的多個部分具有在所述多條布線的多個上表面之中的最上部的表面。
10.根據權利要求8所述的顯示基底,其中,所述多條布線的與省略所述有源圖案、所述第一柵電極和所述第二柵電極的所述堆疊結構疊置的多個部分具有在所述多條布線的多個上表面之中的最下部的表面。
11.根據權利要求7所述的顯示基底,所述顯示基底還包括:第一電極和第二電極,穿過所述絕緣層間層和所述柵極絕緣層延伸以接觸所述有源圖案。
12.根據權利要求11所述的顯示基底,所述顯示基底還包括:第一電極覆蓋圖案和第二電極覆蓋圖案,分別設置在所述第一電極和所述第二電極上。
13.根據權利要求12所述的顯示基底,其中,所述第一電極覆蓋圖案和所述第二電極覆蓋圖案由與所述彩色覆蓋圖案的材料相同的材料形成,
其中,所述第一電極覆蓋圖案和所述第二電極覆蓋圖案的多個上表面具有與所述彩色覆蓋圖案的高度相同的高度。
14.根據權利要求11所述的顯示基底,所述顯示基底還包括:
通孔絕緣層,在所述絕緣層間層上,所述通孔絕緣層覆蓋所述第一電極和所述第二電極;
第三電極,在所述通孔絕緣層上,所述第三電極電連接到所述第二電極;以及
像素限定層,在所述通孔絕緣層上,所述像素限定層部分地覆蓋所述第三電極。
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