[發明專利]一種磁共振偏中心成像二階勻場方法

在審

• 申請號: 201710005902.8
• 申請日: 2017-01-05
• 公開（公告）號: CN108272452A
• 公開（公告）日: 2018-07-13
• 發明（設計）人: 裴孟超;姜小平;奚偉;張成秀;李建奇
• 申請（專利權）人: 上海康達卡勒幅醫療科技有限公司
• 主分類號: A61B5/055
• 分類號: A61B5/055
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁共振偏中心成像二階勻場方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)利用磁共振三維雙梯度回波采集水模數據，計算三維模圖和回波相位差圖并作多通道組合，以第一個回波模圖上最大信號的10％作為mask閾值分離圖像中的水模和背景；

2)利用三維最優路徑去相位折疊算法將步驟1)中得到的回波相位差圖進行去折疊，然后定量計算三維B0場圖；

3)在不改變二階勻場功放各分量數值情況下，改變一階勻場功放的電流輸出數值采集若干份(不少于6份)3D B0場圖并計算一階勻場項磁場梯度大小，并通過線性回歸得到各一階勻場功放輸出數值與圖像上的一階勻場梯度之間的精確轉換的刻度關系；

4)在不改變一階勻場功放各分量數值情況下，改變二階勻場功放的電流輸出數值采集若干份3D B0場圖并計算二階勻場項磁場梯度大小，并通過線性回歸得到各二階勻場功放輸出數值與圖像上的二階勻場梯度之間的精確轉換的刻度關系；

5)將步驟3)和4)中得到的各個勻場刻度值保存在成像系統中，在具體勻場應用過程中，建立以成像感興趣區域中心為原點的球諧函數模型對得到的三維B0定量場圖進行擬合，計算得到磁場不均勻的一階和二階分量；

6)根據偏離磁體中心的位移和將要補償的磁場不均勻二階分量值的大小以及將會額外引起的一階不均勻項之間的線性關系，再對一階項進行計算修正；

7)將最終計算得到的各勻場分量數值，利用步驟3)和4)中得到的刻度值轉換為勻場功放的輸出值，實現偏磁體中心的二階勻場。

2.如權利要求1所述磁共振偏中心成像二階勻場方法，其特征在于，在步驟3)中，改變一階勻場功放的電流輸出數值采集3D B0場圖并計算一階勻場項磁場梯度大小的份數為不少于6份。