[發(fā)明專利]檢查輔助設(shè)備、檢查輔助方法和程序有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680090068.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-10-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109906372B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 立石浩毅;田中亮;西尾忠邦;齋藤一郎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三菱動(dòng)力株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01N21/84 | 分類號(hào): | G01N21/84;F01D25/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 莊錦軍 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 輔助 設(shè)備 方法 程序 | ||
1.一種檢查輔助設(shè)備,包括:
損傷繪圖輸入部分,配置為針對(duì)目標(biāo)部件的圖像,輸入與表示所述目標(biāo)部件的損傷的繪圖相對(duì)應(yīng)的損傷繪圖,并在參考線輸入模式下輸入?yún)⒖季€;
損傷信息輸入部分,配置為輸入損傷信息,所述損傷信息對(duì)應(yīng)于包括損傷類型和表示與所述損傷有關(guān)的屬性的數(shù)值的字符串;以及
顯示器,配置為顯示目標(biāo)圖形,所述目標(biāo)圖形以多個(gè)層示出所述目標(biāo)部件的圖像,所述顯示器以不同的方式顯示與所述損傷繪圖有關(guān)的層和與所述損傷信息有關(guān)的層,通過(guò)選擇性地改變重疊的層的大小,來(lái)對(duì)與所述損傷繪圖有關(guān)的層或與所述損傷信息有關(guān)的層臨時(shí)地進(jìn)行顯示或非顯示,
當(dāng)除了所述損傷繪圖之外還輸入了所述損傷信息時(shí),所述顯示器除了顯示所述目標(biāo)部件的圖像和損傷繪圖之外還顯示所述損傷信息和所述參考線,所述損傷信息與所述參考線的一端靠近顯示,所述參考線的另一端與所述損傷繪圖靠近設(shè)置,或者與所述損傷繪圖部分地重疊設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查輔助設(shè)備,還包括:存儲(chǔ)器,配置為存儲(chǔ)關(guān)于同一損傷的彼此相關(guān)的所述損傷繪圖和所述損傷信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢查輔助設(shè)備,其中所述損傷信息輸入部分輸入表示所述損傷繪圖與所述損傷信息之間的相關(guān)性的參考線,并且其中所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)關(guān)于同一損傷的彼此相關(guān)的所述損傷繪圖、所述損傷信息和所述參考線。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢查輔助設(shè)備,其中所述顯示器以與輸入到所述損傷信息輸入部分的所述損傷信息相對(duì)應(yīng)的顯示方式來(lái)顯示所述損傷繪圖。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢查輔助設(shè)備,還包括:修復(fù)必要性確定部分,配置為在所述目標(biāo)部件的圖像中設(shè)置多個(gè)確定標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域,基于所述損傷繪圖的位置確定損傷位置,并且將所述損傷信息與確定標(biāo)準(zhǔn)相比較而確定修復(fù)的方式。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查輔助設(shè)備,其中所述修復(fù)必要性確定部分基于確定標(biāo)準(zhǔn)信息以及所述損傷繪圖的位置,確定對(duì)所述損傷繪圖所指示的損傷進(jìn)行修復(fù)的方式,其中,所述確定標(biāo)準(zhǔn)信息表示所述目標(biāo)圖形的所述確定標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域與用于確定是否修復(fù)損傷的確定標(biāo)準(zhǔn)之間的關(guān)系。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢查輔助設(shè)備,其中所述損傷信息對(duì)應(yīng)于包括損傷類型和表示與所述損傷有關(guān)的屬性的數(shù)值的字符串,其中所述確定標(biāo)準(zhǔn)信息針對(duì)每種損傷類型描述所述確定標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域與用于確定是否修復(fù)損傷的確定標(biāo)準(zhǔn)之間的關(guān)系,并且其中所述修復(fù)必要性確定部分基于所述確定標(biāo)準(zhǔn)信息中的與所述損傷類型相關(guān)的所述確定標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域以及所述確定標(biāo)準(zhǔn),確定對(duì)所述損傷進(jìn)行修復(fù)的方式。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢查輔助設(shè)備,其中所述顯示器顯示與所述目標(biāo)圖形重疊顯示的每個(gè)所述確定標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域的所述損傷繪圖。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的檢查輔助設(shè)備,其中所述損傷繪圖和所述確定標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域分別使用矢量圖形來(lái)表示。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查輔助設(shè)備,還包括:類型輸入部分,配置為接收輸入到所述損傷繪圖輸入部分的所述損傷繪圖的類型,其中所述損傷繪圖的類型包括由多個(gè)損傷組成的損傷組,并且其中當(dāng)輸入到所述類型輸入部分的所述損傷繪圖的類型對(duì)應(yīng)于所述損傷組時(shí),存儲(chǔ)器存儲(chǔ)單個(gè)損傷繪圖以表示輸入到所述損傷繪圖輸入部分的多個(gè)繪圖。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查輔助設(shè)備,其中作為所述損傷繪圖,提供表示在安裝在同一設(shè)備中的相同類型的多個(gè)目標(biāo)部件中共同發(fā)生的損傷的代表性損傷繪圖,以及表示在所述多個(gè)目標(biāo)部件中的單獨(dú)目標(biāo)部件中發(fā)生的損傷的單獨(dú)損傷繪圖,并且其中所述顯示器以不同的方式顯示與所述多個(gè)目標(biāo)部件有關(guān)的所述代表性損傷繪圖和與所述單獨(dú)目標(biāo)部件有關(guān)的所述單獨(dú)損傷繪圖,所述代表性損傷繪圖和所述單獨(dú)損傷繪圖與圖示所述單獨(dú)目標(biāo)部件的所述目標(biāo)圖形重疊。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
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