[發(fā)明專利]處理流體-抽吸裝置和包含其的蝕刻裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680077827.X
• 申請(qǐng)日: 2016-10-19
• 公開（公告）號(hào): CN108472693B
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J.豪恩格斯;S.拉普
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 吉布爾·施密德有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): B08B5/04
• 分類號(hào): B08B5/04;C23F1/08;H05K3/00;H05K3/06;H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 梁冰;李雪瑩

本發(fā)明涉及一種抽吸裝置，所述抽吸裝置用于從處理基底的基本上平坦的處理表面（3a）處抽吸處理流體，借助運(yùn)輸輥（8、10）沿著基本上水平的運(yùn)輸方向來(lái)運(yùn)輸所述處理基底，所述抽吸裝置具有抽吸源、操控所述抽吸源的抽吸控制單元和具有至少一個(gè)抽吸槍的抽吸管單元，所述抽吸管單元與所述抽吸源連接，所述抽吸槍能夠利用一個(gè)或者多個(gè)入口側(cè)的抽吸噴嘴開口以至所述處理表面的抽吸距離來(lái)定位。此外，本發(fā)明涉及一種配備有這種抽吸裝置的蝕刻裝置。就根據(jù)本發(fā)明的抽吸裝置而言，抽吸源和抽吸控制單元被設(shè)計(jì)為每抽吸槍至少30m³/h的抽吸體積流量和不大于8kPa的抽吸?負(fù)壓。附加地或者可替代的，抽吸槍具有梳狀的抽吸結(jié)構(gòu)，所述抽吸結(jié)構(gòu)具有一個(gè)抽吸收集管（17）和多個(gè)從其處梳狀突出的抽吸管（18），所述抽吸管在入口側(cè)具有所述抽吸噴嘴開口（19）。例如用于蝕刻印刷電路板、導(dǎo)體箔或者半導(dǎo)體晶片的應(yīng)用。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種抽吸裝置，所述抽吸裝置用于從處理基底的基本上平坦的處理表面處抽吸處理流體，借助運(yùn)輸輥沿著基本上水平的運(yùn)輸方向來(lái)運(yùn)輸所述處理基底，其中，所述抽吸裝置具有抽吸源、操控所述抽吸源的抽吸控制單元和具有至少一個(gè)抽吸槍的抽吸管單元，所述抽吸管單元與所述抽吸源連接，所述抽吸槍能夠利用一個(gè)或者多個(gè)入口側(cè)的抽吸噴嘴開口以至所述處理表面的抽吸距離來(lái)定位。此外，本發(fā)明涉及一種配備有這種抽吸裝置的蝕刻裝置，所述蝕刻裝置借助蝕刻流體來(lái)濕化學(xué)蝕刻所述處理基底的基本上平坦的處理表面，其中，所述蝕刻裝置此外包括至少一個(gè)蝕刻模塊以及蝕刻流體輸送器件和具有運(yùn)輸輥的運(yùn)輸單元，所述蝕刻模塊具有蝕刻流體貯存器，所述蝕刻流體輸送器件用于將所述蝕刻流體從所述蝕刻流體貯存器輸送到所述處理表面，所述運(yùn)輸單元用于沿著基本上水平的運(yùn)輸方向來(lái)運(yùn)輸所述處理基底，并且，抽吸裝置被設(shè)置用于從所述處理表面處抽吸所述蝕刻流體。這種蝕刻裝置例如被用于印制電路板、導(dǎo)體箔或者半導(dǎo)體晶片的濕化學(xué)表面蝕刻。

背景技術(shù)

公開文獻(xiàn)DE 41 21 032 A1公開了一種裝置，所述裝置利用流體的處理介質(zhì)沿著基本上水平的運(yùn)輸路徑來(lái)處理板狀的物體，其中，借助施加裝置或者借助駐波而將處理介質(zhì)施加到待處理的表面上。在運(yùn)輸方向上看，在處理介質(zhì)的施加位置之前或者之后布置有抽吸管，所述抽吸管具有抽吸開口，所述抽吸開口面向待處理的表面并且基本上在運(yùn)輸路徑的整個(gè)寬度上延伸。通過(guò)抽吸開口的這種布置，能夠?qū)⑺幚淼谋砻鎱^(qū)域（所述表面區(qū)域在處理時(shí)刻與所述處理介質(zhì)接觸）沿著運(yùn)輸方向定義或者限定在其膨脹部中。抽吸管分別包括抽吸噴嘴，其中，抽吸噴嘴連接在容器處，所述容器用于分離所抽吸的液體份額和空氣份額，所述容器就其而言與真空泵連接，所述真空泵提供用于抽吸噴嘴的負(fù)壓。

開頭所提到類型的、另外的抽吸裝置在公開文獻(xiàn)DE 100 39 558 A1中的、在用于噴涂處理印刷電路板的裝置的應(yīng)用中得到公開。那里的抽吸裝置包括抽吸噴嘴組件以及流體運(yùn)行的噴射器設(shè)備，所述抽吸噴嘴組件用于在噴涂操作期間從印刷電路板的上側(cè)抽吸所噴涂的處理流體，所述噴射器設(shè)備用于產(chǎn)生用于抽吸噴嘴組件的負(fù)壓，其中，噴射器設(shè)備優(yōu)選被布置在存儲(chǔ)容器（在該存儲(chǔ)容器中存儲(chǔ)有處理流體）中并且由用于處理流體的循環(huán)回路饋送，所述循環(huán)回路配備有循環(huán)泵。噴射器設(shè)備尤其能夠配備有文丘里噴嘴。

公開文獻(xiàn)DE 30 22 146 A1公開了一種用于板狀的物體的抽吸裝置，如利用液態(tài)的介質(zhì)預(yù)先處理的并且由鉆孔貫穿的印刷電路板，所述抽吸裝置具有抽吸頭，所述抽吸頭能夠與抽吸風(fēng)扇連接，所述抽吸頭具有至少一個(gè)在其端部處閉合的抽吸槽，物體借助輸送裝置能夠橫向于其縱向方向地運(yùn)動(dòng)經(jīng)過(guò)所述抽吸槽。為了優(yōu)化抽吸功率，設(shè)置了抽吸槽蓋，所述抽吸槽蓋包括多個(gè)蓋元件，所述蓋元件能夠彼此獨(dú)立地在覆蓋或者釋放在對(duì)應(yīng)的區(qū)域中的抽吸槽的位置之間運(yùn)動(dòng)，其中，它們能夠通過(guò)相應(yīng)的物體的經(jīng)過(guò)而被控制到釋放的打開位置中，并且，在物體的經(jīng)過(guò)之后自動(dòng)地返回到覆蓋位置中。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明基于的技術(shù)問(wèn)題為：提供開頭所提到類型的抽吸裝置，所述抽吸裝置實(shí)現(xiàn)了用于對(duì)應(yīng)的應(yīng)用的、對(duì)處理流體的、改進(jìn)的抽吸，并且，在應(yīng)用在蝕刻裝置時(shí)能夠有助于改進(jìn)蝕刻工藝。此外，本發(fā)明基于提供對(duì)應(yīng)改進(jìn)的蝕刻裝置。