[發明專利]扁平密封和包含扁平密封的密封組件有效
| 申請號: | 201680068808.0 | 申請日: | 2016-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN108291643B | 公開(公告)日: | 2021-08-17 |
| 發明(設計)人: | 弗蘭克·施穆克爾 | 申請(專利權)人: | 愛爾鈴克鈴爾股份公司 |
| 主分類號: | F16J15/08 | 分類號: | F16J15/08 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 蔡石蒙;車文 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 扁平 密封 包含 組件 | ||
1.一種平墊圈(100),其為純金屬的或非純金屬的,并且能夠夾緊在部件(10、14)之間并且具有至少一個介質通道開口(102、104、106)和供用于夾緊所述平墊圈的安裝螺釘通過的螺紋孔(108),其中所述平墊圈包括至少圍繞所述介質通道開口的至少一個墊圈層(130、132),至少一個墊圈層具有包圍所述介質通道開口的密封筋(120'、120”),并且為了限制所述密封筋的變形,至少一個墊圈層設置有止擋(136;202b;214a;224;234;300b),所述止擋至少包圍所述介質通道開口的大部分,并且其中所述平墊圈包括用于沿所述止擋的長度使安裝好的所述平墊圈的所述止擋的壓縮均勻化的裝置,
其特征在于,用于使壓縮均勻化的所述裝置包括至少一個部件支撐元件(140;140';140”;200b;200b';210a;226;236;302b),所述部件支撐元件在所述平墊圈的平面圖中僅僅設置在所述止擋的一縱向部分上面并且被構造成使得在所述止擋的該縱向部分的區域中,所述平墊圈比在緊鄰所述止擋的該縱向部分的止擋縱向部分的區域中在局部上更厚,其中,在作用在所述夾緊的平墊圈上的壓縮力下,所述部件支撐元件比所述密封筋更抗變形,并且其中,所述止擋和所述部件支撐元件中的至少一個具有如下的沖壓的高度輪廓,所述高度輪廓使得包括所述止擋和部件支撐元件的總體的高度沿著所述止擋變化。
2.根據權利要求1所述的平墊圈,所述平墊圈具有至少圍繞所述介質通道開口的至少兩個墊圈層。
3.根據權利要求1或2所述的平墊圈,其中,所述部件支撐元件設置在墊圈層上。
4.根據權利要求3所述的平墊圈,其中,所述止擋設置在一個墊圈層上,而所述部件支撐元件設置在另一個墊圈層上。
5.根據權利要求3所述的平墊圈,其中,所述止擋設置在墊圈層的一側上,而所述部件支撐元件設置在該墊圈層的另一側上。
6.根據權利要求3所述的平墊圈,其中,設置有至少一個部件支撐元件的墊圈層還設置有至少一個密封筋。
7.根據權利要求3所述的平墊圈,其中,所述部件支撐元件由墊圈層的沖壓部形成,所述沖壓部形成突出所述墊圈層的至少一個突起。
8.根據權利要求1所述的平墊圈,其中,所述止擋設置有高度輪廓,其高度基于由設置有所述止擋的所述墊圈層所限定的平面沿所述介質通道開口的周邊方向變化,并且其中,使壓縮均勻化所需的所述止擋的理論高度輪廓被替代為所述止擋和所述至少一個部件支撐元件的實際高度輪廓的組合,該組合具有與理論上所需的高度輪廓相同的作用。
9.根據權利要求8所述的平墊圈,其中,在所述止擋的至少一個縱向部分中的所述止擋的高度輪廓的高度在所述止擋的該縱向部分的至少一個第一縱向部分區域中的最大值Hmax與至少一個第二縱向部分區域中的最小值Hmin之間以高度差ΔH=Hmax-Hmin變化,其中所述第一縱向部分區域中的所述止擋的高度輪廓的實際高度與使壓縮均勻化所需的所述止擋的高度輪廓的理論高度相比減小至多ΔH/2,并且其中,在所述止擋的所述第一縱向部分區域中,所述止擋的高度輪廓的高度減小由設置在所述止擋的所述第一縱向部分區域上的至少一個部件支撐元件補償。
10.根據權利要求8或9所述的平墊圈,其中,所述止擋的高度輪廓由在高度上被沖壓的所述止擋的縱向部分形成。
11.根據權利要求1至2中的任一項所述的平墊圈,其中,至少設置有所述密封筋和/或所述止擋和/或所述部件支撐元件的那些墊圈層在整個平墊圈上延伸。
12.根據權利要求1至2中的任一項所述的平墊圈,其中,所述平墊圈形成為氣缸蓋墊圈。
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