[發(fā)明專利]貯煤系統(tǒng)和貯存煤的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680056574.8 | 申請日: | 2016-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN108137234A | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藪內(nèi)誠;松延貴寬;仲谷朋之;加藤太郎 | 申請(專利權(quán))人: | 宇部興產(chǎn)株式會社 |
| 主分類號: | B65G3/02 | 分類號: | B65G3/02 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 龐東成;肖軼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 煤堆 貯存 煤場 灑水器 壓設(shè)備 頂面 灑水 椎體形狀 側(cè)面 低成本 外周部 截頭 | ||
本發(fā)明提供了一種貯煤系統(tǒng)和一種貯存煤的方法,所述系統(tǒng)和方法以低成本實(shí)現(xiàn)了適當(dāng)?shù)臏囟瓤刂贫伙@著增加煤的含水量。所述貯煤系統(tǒng)包括用于貯存煤的煤場院2,在煤場院中形成的具有頂面11和側(cè)面12的截頭椎體形狀的煤堆1,用于展壓煤堆1的展壓設(shè)備,和用于對煤堆灑水的灑水器3。通過展壓設(shè)備進(jìn)行在煤堆1的頂面11的至少外周部上的展壓,并且灑水器3進(jìn)行對側(cè)面12的灑水。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及貯煤系統(tǒng)和貯存煤的方法。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)上,由于煤容易氧化并產(chǎn)生熱量,所以通常在貯存煤時通過噴水等來控制溫度。作為這樣的技術(shù),專利文獻(xiàn)1中公開了通過將煤以其總高度的至少50%浸入水中的狀態(tài)貯存來抑制煤的自發(fā)熱,將貯存的煤以濕態(tài)取出,并利用從發(fā)電裝置抽取的蒸汽對煤進(jìn)行加熱和干燥。
引用列表
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2015-055375號
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
但是,在專利文獻(xiàn)1公開的技術(shù)中,通過浸漬煤炭,煤的含水量顯著增加。由于這種含水量增加的煤被抽取的蒸汽干燥,所以存在將貯存的煤處理成可使用狀態(tài)的過程復(fù)雜化并且煤的成本可能增加的問題。另外,由于使用從發(fā)電裝置抽取的蒸汽來干燥煤,所以還存在貯煤位置被限制在鄰近發(fā)電裝置的地方的問題。
本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的,其目的在于提供一種能夠以低成本實(shí)現(xiàn)適當(dāng)?shù)臏囟瓤刂频馁A煤系統(tǒng)和貯存煤的方法。
解決問題的技術(shù)方案
本發(fā)明的貯煤系統(tǒng)包括:
用于貯存煤的場院;
通過將所述煤在所述場院上堆積而形成的截頭椎體形狀的煤堆,所述煤堆具有頂面和側(cè)面;
用于展壓所述煤堆的展壓設(shè)備;
用于對所述煤堆灑水的灑水器;并且
其中,所述煤堆的頂面的至少外周部經(jīng)所述展壓設(shè)備的展壓,并且所述煤堆的側(cè)面經(jīng)所述灑水器灑水。
本發(fā)明還提供了一種貯存煤的方法,所述方法包括以下步驟:
通過將所述煤在場院上堆積而形成截頭椎體形狀的煤堆,所述煤堆具有頂面和側(cè)面;
展壓至少所述煤堆的頂面的外周部;并且
在經(jīng)展壓的所述煤堆的側(cè)面上灑水。
(術(shù)語的定義)
在本發(fā)明中,“展壓(pressing)”意指在煤堆形成期間或之后對其表面進(jìn)行壓制和緊實(shí)以降低煤堆孔隙度。
“展壓設(shè)備”是指用于壓制煤堆的一般設(shè)備。“重型機(jī)械”可方便地用作“展壓設(shè)備”。另一種可用的“展壓設(shè)備”包括作為“展壓設(shè)備”的具有平坦底面的重物和用于垂直移動重物使得煤堆的表面被壓制的垂直移動裝置的組合。“重型機(jī)械”是施工機(jī)械的通用術(shù)語,“重型機(jī)械”中的“施工車輛”僅通過在煤堆表面運(yùn)行就可以利用自身的重量進(jìn)行“壓制”。在使用動力鏟作為“重型機(jī)械”的情況下,可以通過在煤堆表面上推動或擊打動力鏟的鏟斗或反向鏟來進(jìn)行“展壓”。當(dāng)“展壓”“重型機(jī)械”不能運(yùn)行的地方時,這是有效的。此外,作為一種“重型機(jī)械”的“緊實(shí)裝置”可用于展壓。
另外,在本發(fā)明中,針對“展壓”中的煤堆的部分的展壓如下定義。
“外周展壓”意指僅展壓與煤堆頂面內(nèi)的頂面外周邊緣相距1m至2m的位置內(nèi)3m至5m的區(qū)域。
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