[發(fā)明專利]用于三維NAND非易失性存儲(chǔ)器裝置的方法和設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680053935.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-09-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108055874B | 公開(公告)日: | 2021-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J.劉;C.葛;J.阿爾斯梅爾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 桑迪士克科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/11551 | 分類號(hào): | H01L27/11551 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 邱軍 |
| 地址: | 美國(guó)得*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 三維 nand 非易失性存儲(chǔ)器 裝置 方法 設(shè)備 | ||
1.一種制造單片三維存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的方法,所述方法包括:
在襯底之上形成交替的字線和電介質(zhì)層的堆疊體;
在所述襯底之上形成源極線;
形成延伸穿過所述交替的字線和電介質(zhì)層以及所述源極線的存儲(chǔ)器孔;并且
在與所述存儲(chǔ)器孔相鄰的所述襯底上形成機(jī)械支撐元件。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,還包括:
在所述存儲(chǔ)器孔中形成垂直溝道;
在所述存儲(chǔ)器孔中形成外部層和溝道;
選擇性地移除所述外部層的一部分以暴露所述溝道的外圍外部;并且
形成與所述溝道的暴露的外圍外部接觸的所述源極線。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中形成所述機(jī)械支撐元件包括在與所述溝道的暴露的外圍外部相鄰處形成所述機(jī)械支撐元件。
4.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,還包括:
在所述襯底上形成犧牲材料層;
在所述犧牲材料層和所述襯底中蝕刻溝槽;以及
在所述溝槽中形成所述機(jī)械支撐元件。
5.如權(quán)利要求4所述的方法,還包括:
選擇性地移除所述犧牲材料層;以及
用所述源極線替代所述犧牲材料。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,其中形成所述機(jī)械支撐元件包括在所述襯底的第一區(qū)域上形成第一多個(gè)機(jī)械支撐元件,并且在所述襯底的第二區(qū)域上形成第二多個(gè)機(jī)械支撐元件。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,還包括在所述機(jī)械支撐元件之上形成所述交替的字線和電介質(zhì)層的所述堆疊體。
8.一種三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),包括:
設(shè)置在襯底之上的源極線;
設(shè)置在所述襯底之上的堆疊體,所述堆疊體包括交替的字線和電介質(zhì)層;
在存儲(chǔ)器孔中形成的存儲(chǔ)器單元的多個(gè)NAND串,所述存儲(chǔ)器孔延伸穿過所述源極線以及所述交替的字線和電介質(zhì)層,每個(gè)存儲(chǔ)器單元包括由字線層中的一個(gè)形成的控制柵極;以及
設(shè)置在與所述多個(gè)NAND串相鄰的所述襯底上的機(jī)械支撐元件。
9.如權(quán)利要求8所述的三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),其中所述機(jī)械支撐元件包括多個(gè)機(jī)械支撐元件。
10.如權(quán)利要求8-9中任一項(xiàng)所述的三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),其中所述機(jī)械支撐元件包括設(shè)置在所述存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的第一區(qū)域處的第一機(jī)械支撐元件的集合,設(shè)置在所述存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的第二區(qū)域處的第二機(jī)械支撐元件的集合,以及設(shè)置在所述存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的第三區(qū)域處的第三機(jī)械支撐元件。
11.如權(quán)利要求10所述的三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),其中所述第一區(qū)域包括所述存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的第一外圍區(qū)域,所述第二區(qū)域包括所述存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的第二外圍區(qū)域,并且所述第三區(qū)域包括所述存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的中央?yún)^(qū)域。
12.如權(quán)利要求8所述的三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),其中所述機(jī)械支撐元件延伸到基本上等于所述源極線的頂表面的高度的高度。
13.如權(quán)利要求8所述的三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),其中所述機(jī)械支撐元件具有約500埃與約3500埃之間的高度。
14.如權(quán)利要求8所述的三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),其中所述機(jī)械支撐元件包括多晶硅。
15.如權(quán)利要求8所述的三維堆疊非易失性存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu),其中所述NAND串的每一個(gè)包括包含與所述源極線接觸的外圍外部的垂直溝道。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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