[發(fā)明專利]壓電元件以及其制造方法、壓電驅(qū)動器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680053346.5 | 申請日: | 2016-09-01 |
| 公開(公告)號: | CN108028310A | 公開(公告)日: | 2018-05-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 秋山典之;中村明 | 申請(專利權(quán))人: | 三美電機株式會社 |
| 主分類號: | H01L41/09 | 分類號: | H01L41/09;B81B3/00;B81C1/00;G02B26/08;G02B26/10;H01L41/047;H01L41/053;H01L41/23;H01L41/29;H01L41/332;G02B27/48 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 金成哲;宋春華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓電 元件 及其 制造 方法 驅(qū)動器 | ||
本壓電元件具有基板、形成于上述基板上的下部電極、形成于上述下部電極上的壓電膜以及形成于上述壓電膜上的上部電極,上述上部電極形成在實施了平坦化處理的面。
技術領域
本發(fā)明涉及壓電元件以及其制造方法、壓電驅(qū)動器。
背景技術
一直以來,已知有利用了若對壓電膜施加電壓則變形的現(xiàn)象的壓電元件。壓電元件例如具備壓電膜和以夾著壓電膜的方式設置的一對電極,通過對一對電極施加驅(qū)動電壓,從而使壓電膜位移。關于這樣的壓電元件,一直在試驗制作壓電性良好的壓電膜的方法(例如,參照專利文獻1)。
現(xiàn)有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2003-273694號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
然而,在壓電元件中,制作壓電性良好的壓電膜是很重要的,但是確保充分的絕緣耐壓也很重要。但是,上述的文獻未提及絕緣耐壓。
本發(fā)明鑒于上述的點而做成,以提供能夠提高絕緣耐壓的壓電元件為課題。
用于解決課題的方案
本壓電元件的宗旨為,具有基板(31)、形成于上述基板(31)上的下部電極(32)、形成于上述下部電極(32)上的壓電膜(33)以及形成于上述壓電膜(33)上的上部電極(34),上述上部電極(34)形成在實施了平坦化處理的面。
此外,上述括號內(nèi)的參照符號是為了容易進行理解而添加的,只是一例,并非限定于圖示的方案。
發(fā)明的效果
根據(jù)公開的技術,能夠提供可提高絕緣耐壓的壓電元件。
附圖說明
圖1是示例第一實施方式的光掃描控制裝置的塊圖。
圖2是示例構(gòu)成光掃描控制裝置的光掃描裝置的俯視圖。
圖3是示例第一實施方式的壓電元件的剖視圖。
圖4是示例第一實施方式的壓電元件的制造工序的圖(其一)。
圖5是示例第一實施方式的壓電元件的制造工序的圖(其二)。
圖6是示例第一實施方式的壓電元件的制造工序的圖(其三)。
圖7是示例第一實施方式的壓電元件的制造工序的圖(其四)。
圖8是對凹部的前端的應力進行說明的圖。
圖9是表示擊穿電場的威布爾分布的測量結(jié)果的圖(其一)。
圖10是示例第二實施方式的壓電元件的剖視圖。
圖11是示例保護膜的膜厚以及相對介電常數(shù)與壓電膜的位移的關系的圖。
圖12是形成有保護膜的壓電膜的截面圖像(其一)。
圖13是形成有保護膜的壓電膜的截面圖像(其二)。
圖14是表示擊穿電場的威布爾分布的測量結(jié)果的圖(其二)。
圖15是示例第二實施方式的變形例的壓電元件的剖視圖。
具體實施方式
以下,參照附圖,對用于實施發(fā)明的方案進行說明。有時,在各附圖中對相同結(jié)構(gòu)部分標注相同符號,省略重復的說明。此外,在以下的實施方式中,示出將具備本發(fā)明的壓電元件的壓電驅(qū)動器用于光掃描控制裝置的例,但是不限定于此。
〈第一實施方式〉
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于三美電機株式會社,未經(jīng)三美電機株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680053346.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:治療1B型PHA的環(huán)狀多肽
- 下一篇:噴墨頭以及噴墨記錄裝置





