[發(fā)明專利]具有全視場探測器的掃描X射線裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680038573.0
• 申請日: 2016-06-24
• 公開（公告）號: CN107847199B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: T·克勒;G·馬滕斯;R·普羅克紹;H-I·馬克;U·范斯特文達勒;F·普法伊費爾;P·諾埃爾;M·馮托伊芬巴赫
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 孟杰雄;王英

1.一種X射線成像裝置，包括：

-X射線源(XR)，其用于發(fā)射X射線輻射的射束；

-X射線探測器(D)，其被布置為跨用于容納要被成像的目標的檢查區(qū)域與所述X射線源相對；以及

-干涉儀(IF)，其被布置在所述X射線源(XR)與所述X射線探測器之間，所述干涉儀在用于執(zhí)行差分相襯成像和/或暗場成像的操作期間至少部分被布置在X射線輻射的所述射束中，所述干涉儀(IF)包括至少一個光柵(G1)以將所述X射線輻射調(diào)制為能由所述X射線探測器探測的干涉圖案；

其中，所述至少一個光柵的覆蓋范圍小于所述X射線探測器的輻射敏感區(qū)的覆蓋范圍；并且

其中，所述裝置被配置為在成像操作期間實現(xiàn)所述至少一個光柵在出于掃描目的的跨視場的掃描運動中相對于所述X射線探測器移動，同時所述X射線探測器相對于所述檢查區(qū)域保持靜止。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其中，所述至少一個光柵(G1)的所述覆蓋范圍的一個維度實質(zhì)上與所述X射線探測器(D)的所述覆蓋范圍的對應(yīng)維度擴及同空間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其中，所述X射線探測器D是全視場X射線探測器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其中，所述裝置被配置為實現(xiàn)所述至少一個光柵(G1)的不同于所述掃描運動的另一運動。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，被配置為在所述成像操作期間實現(xiàn)所述目標相對于所述至少一個光柵(G1)或所述X射線探測器(D)的運動。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其中，所述干涉儀(IF)包括另外的第二光柵(G2)，所述第二光柵同樣能在所述掃描運動中移動，其中，至少兩個光柵(G1、G2)在所述掃描運動期間相對于彼此保持固定空間關(guān)系。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成像裝置，其中，所述兩個光柵(G1、G2)被布置在所述檢查區(qū)域的彼此相對側(cè)上。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成像裝置，其中，所述兩個光柵(G1、G2)被布置在所述檢查區(qū)域的彼此相同側(cè)上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項所述的成像裝置，被配置用于沿著直線路徑執(zhí)行所述掃描運動。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項所述的成像裝置，被配置用于沿著彎曲路徑執(zhí)行所述掃描運動。

11.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項所述的成像裝置，其中，所述X射線探測器具有單片結(jié)構(gòu)。

12.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項所述的成像裝置，被配置為在所述成像操作期間實現(xiàn)所述X射線源沿著基本上平行于所述掃描運動的路徑移動。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像裝置，還包括多個源光柵，所述多個源光柵基本上平行于所述X射線源能沿著其移動的所述路徑被串行布置。

14.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項所述的成像裝置，其中，所述掃描運動是垂直的或水平的。

15.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項所述的成像裝置，其中，所述至少一個光柵(G1)的柵欄在基本上平行于所述掃描運動或者基本上垂直于所述運動的方向上延伸。