[發明專利]處理工件的方法有效
| 申請號: | 201680038035.1 | 申請日: | 2016-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN107710423B | 公開(公告)日: | 2021-01-12 |
| 發明(設計)人: | 維克拉姆·M·博斯爾;提摩太·J·米勒;查理斯·T·卡爾森;具本雄 | 申請(專利權)人: | 瓦里安半導體設備公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0236;H01L31/0288;H05B1/02 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 美國麻薩諸塞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 工件 方法 | ||
1.一種處理工件的方法,其特征在于,包括:
將硼植入至所述工件的第一表面中;
在所述植入之后將所述工件返送至載具的同時,將所述工件暴露于短的熱處理,使硼自所述工件的所述第一表面向外擴散;以及
在所述暴露之后,同時使所述工件與至少另一工件經受退火工藝,將所植入的硼驅入至所述工件中,修復由植入造成的損壞并將硼活化,其中所述退火工藝時,所述工件與所述至少另一工件堆疊于所述載具中,使得所述工件的前表面鄰近所述至少另一工件的后表面。
2.根據權利要求1所述的處理工件的方法,其特征在于,在所述暴露期間對周圍環境供應氧氣。
3.根據權利要求1所述的處理工件的方法,其特征在于,在所述暴露期間對周圍環境供應氧氣及至少一種惰性氣體。
4.根據權利要求1所述的處理工件的方法,其特征在于,所述短的熱處理是使用激光來執行。
5.根據權利要求1所述的處理工件的方法,其特征在于,所述短的熱處理是使用一或多個加熱燈來執行。
6.根據權利要求1所述的處理工件的方法,其特征在于,所述短的熱處理是使用一或多個發光二極管來執行。
7.根據權利要求1所述的處理工件的方法,其特征在于,還包括在所述暴露之前將氧植入至所述工件的所述第一表面中。
8.根據權利要求7所述的處理工件的方法,其特征在于,氧是與硼同時植入。
9.根據權利要求1所述的處理工件的方法,其特征在于,所述短的熱處理將所述工件加熱至介于850℃與1450℃之間的溫度。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





