[發(fā)明專利]離子植入系統(tǒng)以及原位等離子清洗方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680033326.1
• 申請日: 2016-06-02
• 公開（公告）號: CN107690689B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 凱文·安葛林;威廉·戴維斯·李;彼得·庫魯尼西;里安·道尼;杰·T·舒爾;亞歷山大·利坎斯奇;威廉·M·賀伯
• 申請（專利權(quán)）人: 瓦里安半導(dǎo)體設(shè)備公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/32;B08B7/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種離子植入系統(tǒng)，其特征在于，包括：

在所述離子植入系統(tǒng)的腔室內(nèi)的構(gòu)件，其中所述構(gòu)件為靜電濾波器，所述靜電濾波器包含沿著離子束線安置的多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件；

與所述構(gòu)件連通的電力供應(yīng)器，所述電力供應(yīng)器在處理模式期間將第一電壓和第一電流供應(yīng)到所述構(gòu)件和在清洗模式期間將第二電壓和第二電流供應(yīng)到所述構(gòu)件，其中所述第一電壓和所述第一電流經(jīng)獨(dú)立的施加到所述構(gòu)件的所述多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件的每一者，其中所述構(gòu)件包含電極柵，所述電極柵圍繞所述離子束線并聯(lián)延伸且安置在所述離子束線的上方和下方，安置于直接相鄰所述傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件與所述靜電濾波器的外殼，所述電極柵在所述清洗模式期間接收所述第二電壓以在所述傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件的一或多者周圍產(chǎn)生等離子，其中在所述清洗模式期間供應(yīng)所述第二電壓至所述電極柵，其中在所述清洗模式期間所述多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件處于零伏特；以及

蝕刻劑氣體，其經(jīng)供應(yīng)到所述構(gòu)件以實(shí)現(xiàn)所述傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件的蝕刻。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入系統(tǒng)，還包括用于將所述蝕刻劑氣體供應(yīng)到所述腔室的氣體入口。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入系統(tǒng)，還包括用于調(diào)整所述蝕刻劑氣體的注入速率的流量控制器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入系統(tǒng)，還包括用于調(diào)整所述腔室的壓力的真空泵。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入系統(tǒng)，所述第二電壓和所述第二電流從以下中的一者供應(yīng)：直流電力供應(yīng)器和射頻電力供應(yīng)器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子植入系統(tǒng)，所述構(gòu)件包括能量純度模塊。

7.一種離子植入系統(tǒng)，其特征在于，包括：

能量純度模塊，其包含用于等離子的產(chǎn)生的腔室，其中所述能量純度模塊包含沿著離子束線安置的多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件；以及電極柵，直接往相鄰所述多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件及所述能量純度模塊的外殼延伸，所述電極柵安置在所述離子束線的上方和下方，

與所述能量純度模塊連通的電力供應(yīng)器，所述電力供應(yīng)器在處理模式期間將第一電壓和第一電流供應(yīng)到所述多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件，且在清洗模式期間將第二電壓和第二電流供應(yīng)到所述電極柵，其中所述第一電壓和所述第一電流經(jīng)獨(dú)立的施加到所述能量純度模塊的所述多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件的每一者，其中所述電極柵在所述清洗模式期間接收所述第二電壓和第二電流以在所述傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件的一或多者周圍產(chǎn)生等離子，其中所述電極柵在所述處理模式期間接地且在所述清洗模式期間供應(yīng)第二電壓至所述電極柵，且其中在所述清洗模式期間所述多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件處于零伏特；以及

流量控制器，其用于在所述清洗模式期間調(diào)整供應(yīng)到所述能量純度模塊的蝕刻劑氣體的注入速率。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離子植入系統(tǒng)，其特征在于所述多個傳導(dǎo)性射束光學(xué)器件包括多個電極桿。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離子植入系統(tǒng)，所述第一電壓和所述第一電流由直流電力供應(yīng)器供應(yīng)，且所述第二電壓和所述第二電流由以下中的一者供應(yīng)：直流電力供應(yīng)器和射頻電力供應(yīng)器。