[發(fā)明專利]利用皮膚穹隆測量以調(diào)整真空設置的微磨皮設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680032600.3
• 申請日: 2016-05-26
• 公開（公告）號: CN107666874A
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發(fā)明（設計）人: L·G·M·貝簡斯;M·朱納;M·Y·詹森;F·G·P·皮特斯
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61B17/54
• 分類號: A61B17/54
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所11256
• 代理人: 鄭立柱,李春輝

1.一種微磨皮設備(1)，包括真空系統(tǒng)(100)和設備頂端(200)，其中所述真空系統(tǒng)(100)與在所述設備頂端(200)的進口區(qū)(1200)處的通道進口(120)流體連通，其中，所述真空系統(tǒng)(100)被配置成向所述進口區(qū)(1200)施加真空，其中，所述進口區(qū)(1200)進一步包括傳感器(400)，所述傳感器(400)被配置成測量所述進口區(qū)(1200)中的皮膚的一部分的皮膚參數(shù)，并且提供對應的傳感器信號，其中，所述設備頂端(200)進一步包括微磨皮區(qū)(1240)，所述微磨皮區(qū)(1240)被配置成研磨所述皮膚的一部分，并且其中，所述微磨皮設備(1)進一步包括控制單元(500)，所述控制單元(500)被配置成根據(jù)從所述傳感器信號得到的傳感器信號信息以及所述傳感器信號信息與真空設置之間的預定關系來控制所述真空。

2.根據(jù)權利要求1所述的微磨皮設備(1)，其中，所述控制單元(500)被配置成從所述傳感器信號信息來確定皮膚類型，并且根據(jù)所述皮膚類型來控制所述真空。

3.根據(jù)權利要求1所述的微磨皮設備(1)，其中，所述控制單元(500)被配置成從所述傳感器信號信息確定身體區(qū)，并且根據(jù)所述身體區(qū)來控制所述真空。

4.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，其中，所述控制單元(500)被配置成保持所述皮膚到所述進口區(qū)(1200)中的恒定突出。

5.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，其中，所述真空系統(tǒng)包括泵(105)和具有可控真空泄漏的旁路系統(tǒng)(600)，其中，所述控制單元(500)被配置成通過控制所述可控真空泄漏來控制施加到所述進口區(qū)的所述真空。

6.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，進一步包括用戶接口(510)，所述用戶接口(510)被配置成允許用戶選擇涉及所述真空的強度的用戶輸入?yún)?shù)，并且其中，所述控制單元(500)被配置成根據(jù)所述用戶輸入?yún)?shù)來控制所述真空。

7.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，其中，所述傳感器(400)選自由光學傳感器和電導率傳感器組成的組。

8.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，其中，所述控制單元(500)和所述傳感器(400)被配置成施加光學測量，所述光學測量包括由以下組成的組中的一個或多個：(i)色差、(ii)三角測量、(iii)光透射、和(iv)光反射，并且其中，所述傳感器(400)特別地被配置成測量所述進口區(qū)中的所述皮膚的突出深度、所述皮膚的顏色、和所述皮膚的粗糙度中的一個或多個。

9.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，進一步包括運動傳感器(410)，其中，所述控制單元(500)被配置成由從所述傳感器信號得到的一個或多個傳感器信號信息和從來自所述運動傳感器(410)的運動傳感器信號得到的運動傳感器信號信息，來確定所述微磨皮設備(1)的平移速度參數(shù)和平移方向參數(shù)中的一個或多個，并且根據(jù)所述平移速度參數(shù)和所述平移方向參數(shù)中的一個或多個來控制所述真空。

10.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，其中，所述控制單元(500)被配置成存儲(a)傳感器信號信息以及(b)處理信息中的一個或多個，并且其中，所述控制單元(500)進一步被配置成執(zhí)行以下中的一個或多個：(i)根據(jù)所述傳感器信號信息和處理信息中的一個或多個來控制所述真空，以及(ii)在顯示器上提供從所述傳感器信號信息和處理信息中的一個或多個取得的信息。

11.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，進一步包括研磨材料系統(tǒng)(300)，所述研磨材料系統(tǒng)(300)被配置成以氣流將研磨材料(241)提供到所述微磨皮區(qū)(1240)。

12.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，其中，所述微磨皮區(qū)(1240)包括微磨皮區(qū)域(240)，所述微磨皮區(qū)域(240)包括固定化的研磨材料(241)。

13.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的微磨皮設備(1)，其中，所述控制單元(500)進一步被配置成根據(jù)期望研磨或?qū)嶋H研磨中的一個或多個來控制所述真空。