[發(fā)明專利]具有保護(hù)層的發(fā)光材料顆粒和制造具有保護(hù)層的發(fā)光材料顆粒的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680014140.1
• 申請(qǐng)日: 2016-03-01
• 公開（公告）號(hào): CN107406757B
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蒂姆·菲德勒;索尼婭·特拉格爾;斯特凡·朗格
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 歐司朗光電半導(dǎo)體有限公司;歐司朗股份有限公司
• 主分類號(hào): C09K11/02
• 分類號(hào): C09K11/02;C09K11/64
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 丁永凡;張春水

本發(fā)明的主題是一種用于制造具有保護(hù)層的、含Si的和/或含Al的發(fā)光材料的發(fā)光材料顆粒的方法，所述方法包括方法步驟：A)用酸溶液處理含Si的和/或含Al的發(fā)光材料，其中酸溶液的pH值在pH 3.5至7的范圍之內(nèi)保持至少1h的時(shí)間段，并且其中在發(fā)光材料顆粒上形成含Si的層，所述含Si的層在表面上與發(fā)光材料顆粒相比具有更高含量的Si，和/或在發(fā)光材料顆粒上形成含Al的層，所述含Al的層在表面上與發(fā)光材料顆粒相比具有更低含量的Al，B)在至少100℃的溫度下將經(jīng)過(guò)處理的發(fā)光材料顆粒進(jìn)行回火以產(chǎn)生保護(hù)層。通過(guò)這種方法能夠尤其簡(jiǎn)單地在發(fā)光材料顆粒上產(chǎn)生穩(wěn)定的保護(hù)層。

技術(shù)領(lǐng)域

發(fā)光材料通常是非常水解敏感的，所述發(fā)光材料能夠?qū)⒊跫?jí)輻射借助于輻射轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)變成轉(zhuǎn)換的輻射，即具有更長(zhǎng)波長(zhǎng)的次級(jí)輻射。由于發(fā)光材料的水解，因此許多發(fā)光設(shè)備能夠隨時(shí)間以不期望的方式改變其色點(diǎn)，在所述發(fā)光設(shè)備中發(fā)光材料設(shè)置在初級(jí)輻射源的光路中。此外，由于發(fā)光材料的水解，發(fā)光材料的轉(zhuǎn)換效率通常也強(qiáng)烈下降。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉參引

本申請(qǐng)要求德國(guó)專利申請(qǐng)10 2015 103 326.7的優(yōu)先權(quán)，其公開內(nèi)容在此通過(guò)參引并入本文。

背景技術(shù)

為了避免這類問(wèn)題已知的是，用二氧化硅層來(lái)保護(hù)發(fā)光材料，所述二氧化硅層例如能夠通過(guò)四乙氧基硅烷(TEOS)在液態(tài)溶液中的水解來(lái)施加到發(fā)光材料顆粒上。另一可行性是借助于化學(xué)氣相沉積(CVD)來(lái)沉積覆層材料。但是這類方法是非常時(shí)間耗費(fèi)和成本耗費(fèi)的，因?yàn)楸仨殲闅庀喑练e或二氧化硅層的沉積提供單獨(dú)的化學(xué)試劑。

從美國(guó)專利申請(qǐng)US 2006/0263627 A1中已知在發(fā)光材料顆粒上產(chǎn)生保護(hù)層，其中添加大量的酸來(lái)構(gòu)成覆層。然而，該方法能夠易于導(dǎo)致大份額的發(fā)光材料的溶解，因?yàn)橥ǔＬ砑哟罅康乃帷?/p>

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，提供一種用于制造具有保護(hù)層的、含Si的和/或含Al的發(fā)光材料的發(fā)光材料顆粒的方法和一種具有保護(hù)層的含Si的和/或含Al的發(fā)光材料，所述發(fā)光材料顆粒關(guān)于上述技術(shù)問(wèn)題改進(jìn)。

用于制造發(fā)光材料顆粒的有利的設(shè)計(jì)方案以及具有保護(hù)層的新型的發(fā)光材料顆粒的有利的設(shè)計(jì)方案是下面的描述的主題。

本發(fā)明的主題是一種用于制造具有保護(hù)層的、含Si的和/或含Al的發(fā)光材料的發(fā)光材料顆粒的方法，所述方法包括方法步驟：

A)用酸溶液處理含硅的和/或含鋁的發(fā)光材料，其中酸溶液的pH值在pH 3.5至7的范圍之內(nèi)保持至少一小時(shí)的時(shí)間段，并且其中在發(fā)光材料顆粒上形成含硅的層，所述含硅的層在表面上具有比發(fā)光材料顆粒更高含量的硅，和/或在發(fā)光材料顆粒上形成含鋁的層，所述含鋁的層在表面上具有與發(fā)光材料顆粒相比改變含量的鋁，

B)在至少100℃的溫度下對(duì)經(jīng)過(guò)處理的發(fā)光材料顆粒進(jìn)行回火以產(chǎn)生保護(hù)層。

在此和在下文中，除純的發(fā)光材料之外，術(shù)語(yǔ)“發(fā)光材料”也包含由發(fā)光材料相構(gòu)成的混合物，除主相之外，所述發(fā)光材料相可能附加地包含次級(jí)相或雜相，并且所述發(fā)光材料相適合用于將初級(jí)輻射借助于輻射轉(zhuǎn)換變換成次級(jí)輻射。

與傳統(tǒng)的酸處理方法相反地，在所述根據(jù)本發(fā)明的方法中，酸溶液的pH值在至少一小時(shí)的特定的時(shí)間段中保持在3.5至7的狹窄限界的PH值范圍中。令人驚訝地，這種方法引起發(fā)光材料顆粒相對(duì)于水解的顯著提高的穩(wěn)定性，使得借助于根據(jù)本發(fā)明的方法設(shè)有保護(hù)層的發(fā)光材料也適合用于在具有高的空氣濕度的環(huán)境中應(yīng)用。

優(yōu)選地，在此，在至少優(yōu)選三小時(shí)、更優(yōu)選至少四小時(shí)的時(shí)間段中設(shè)定在4至6.5之間的PH值，更優(yōu)選在4.5至6的pH值之間。酸處理的整個(gè)時(shí)間段能夠在兩小時(shí)至七小時(shí)、優(yōu)選四小時(shí)至五小時(shí)的范圍中波動(dòng)。