[發明專利]氣體上浮工件支承裝置及非接觸工件支承方法有效
| 申請號: | 201680011950.1 | 申請日: | 2016-02-12 |
| 公開(公告)號: | CN107407329B | 公開(公告)日: | 2019-08-13 |
| 發明(設計)人: | 鈴木祐輝;谷川貞夫 | 申請(專利權)人: | 株式會社日本制鋼所 |
| 主分類號: | F16C32/06 | 分類號: | F16C32/06;B65G49/06;H01L21/677;H01L21/683 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 胡曼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 上浮 工件 支承 裝置 接觸 方法 | ||
具有使氣體向上方噴出的氣體上方噴出部(2B)和位于所述氣體上方噴出部(2B)的上方側并使氣體向下方噴出的氣體下方噴出部(2A),所述氣體下方噴出部(2A)設置于,對于通過從所述氣體上方噴出部(2B)噴出的所述氣體進行上浮支承的板狀工件(100),使所述氣體從所述板狀工件(100)的上方向下方噴出從而施加壓力的位置,在對板狀工件進行上浮支承之際,能進行上浮量均勻并且高平面度地支承。
技術領域
本發明涉及一種通過氣體噴射使玻璃基板等板狀工件以非接觸的方式上浮的氣體上浮工件支承裝置及非接觸工件支承方法。
背景技術
關于通過氣體噴射使玻璃基板等板狀工件上浮的裝置,目前為止提出過幾種方案。
例如,如圖7(A)所示,在專利文獻1中,提出了在底座上分別設置有產生正壓的多孔質塊體51和產生負壓的抽吸塊體52的上浮抽吸混合部50。在多孔質塊體51中,通過供給空氣來使空氣從多孔質體的上表面噴出,從而將由玻璃基板構成的板狀工件100以非接觸的狀態保持。與此同時,通過抽吸塊體52產生抽吸力,從而將玻璃基板100拉向上浮抽吸混合部50的上表面側。通過上述抽吸力和上述上浮力的協同作用,能得到玻璃基板100相對于上浮抽吸混合部50的上表面上浮大致一定的上浮量并處于穩定的上浮狀態。
另外,如圖8(A)所示,在專利文獻2中,通過未圖示的運送裝置將在上浮單元60的上方上浮的板狀工件100夾緊并向箭頭方向運送。在上述上浮單元60中,空氣從多孔質板61的整個表面噴出,由于多孔質板61的整個表面構成為空氣軸承表面,所以板狀工件100能不發生翹曲地上浮,能以與多孔質板61非接觸的形態進行運送。另外,在抽吸孔62產生抽吸板狀工件100的力。上述抽吸力是通過從多孔質板61噴出的空氣來對上浮的板狀工件100的上浮量進行限制的力。因此,通過對上述抽吸力進行控制從而能控制板狀工件100的上浮量。
現有技術文獻
專利文獻1:日本專利特開2006-266351號公報
專利文獻2:日本專利特開2008-110852號公報
發明內容
發明所要解決的技術問題
但是,在專利文獻1所示的裝置中,由于產生正壓的區域和產生負壓的區域是不同的塊體,所以,在正壓區域中單獨產生上浮力,在負壓區域中單獨產生抽吸力。因此,正壓產生塊體上的基板的上浮量和負壓產生塊體上的基板的上浮量相比,會產生一定程度的上浮量的差,實際如圖7(B)所示,從玻璃基板整體觀察,平面度會變低。藉此,在上述裝置中,在對基板的整個表面或基板的一部分進行加工的過程中,在基板的整個表面或基板的一部分有高平面度要求的情況下,會存在不能滿足該要求的問題。
另外,在專利文獻2所示的裝置中,在正壓產生區域(多孔質板)上和負壓產生區域(抽吸孔)上,對內部結構進行了改進,以避免上浮量產生差距,實際中,當大型的玻璃基板跨在多個上浮單元上并上浮時,如圖8(B)所示,由于上浮單元的排列方式,在玻璃基板的中央部空氣會變得不易排出。藉此,會產生由于從多孔質板產生的正壓導致空氣滯留、基板中央部隆起、玻璃基板整體的平面度變低這樣的現象。為了解決上述問題,列舉了將抽吸孔較多配置于玻璃基板的中央部的方法,但是由于玻璃是需要運送的,所以會產生中央部不確定,或者由于玻璃尺寸不同,最優的抽吸孔的布局會改變這樣的問題。
本發明為解決上述現有技術問題而作,目的之一是為了提供一種氣體上浮工件支承裝置及非接觸工件支承方法,該氣體上浮工件支承裝置及非接觸工件支承方法能使玻璃基板等板狀工件整個表面的上浮量均勻,并且能使板狀工件的平面度提高。
解決技術問題所采用的技術方案
即,本發明一方式的氣體上浮工件支承裝置的特征在于,具有:將氣體向上方噴出的氣體上方噴出部;以及位于該氣體上方噴出部的上方側,并將氣體向下方噴出的氣體下方噴出部,
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