[發明專利]在不連續基底上形成紋理的方法

有效

• 申請號: 201680009497.0
• 申請日: 2016-02-11
• 公開（公告）號: CN107466380B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: J·M·特爾默倫;B·J·蒂圖萊爾;A·J·范埃芬
• 申請（專利權）人: 莫福托尼克斯控股有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 彭立兵;林柏楠

1.用于輥-至-板紋理化或圖案化不連續基底的壓模，其包含刻印紋理作為其外表面層，該刻印紋理通過開孔和凸起形成，由此得到刻印紋理中的空的容積，其特征是刻印紋理在其至少一個邊緣處包含多個開孔和凸起以形成更大的空的容積的區間，并且壓模是楊氏模量為0.1千兆帕斯卡至10千兆帕斯卡的柔性壓模，其特征在于在所述具有更大的容積的區間內的蓄存區區域內的凸起成型為塊、棒、圓柱、三棱柱或錐。

2.權利要求1的壓模，其特征在于通過增加刻印紋理中開孔的深度和/或凸起的高度獲得所述更大的空的容積。

3.權利要求1的壓模，其特征在于為填充物材料的其他材料用做位于柔性壓?；A和刻印紋理之間的刻印紋理彩料的基礎，并且更大的空的容積由填充物材料建立。

4.權利要求1-3中任一項的壓模，其中非刻印紋理具有殘留層厚度，并且更大的空的容積通過殘留層厚度的增加而建立。

5.權利要求1-3中任一項的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的蓄存區區域區間中的開孔和/或凸起是用衍射、散射或反射紋理紋理化的。

6.權利要求4的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的蓄存區區域區間中的開孔和/或凸起是用衍射、散射或反射紋理紋理化的。

7.權利要求1-3中任一項的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內的凸起和開孔的密度分布和表面紋理的對齊方式使得其可用于裝飾或信息目的。

8.權利要求4的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內的凸起和開孔的密度分布和表面紋理的對齊方式使得其可用于裝飾或信息目的。

9.權利要求5的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內的凸起和開孔的密度分布和表面紋理的對齊方式使得其可用于裝飾或信息目的。

10.權利要求6的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內的凸起和開孔的密度分布和表面紋理的對齊方式使得其可用于裝飾或信息目的。

11.權利要求1-3中任一項中任一項的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內蓄存區區域的凸起具有與功能區域相同的紋理。

12.權利要求4的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內蓄存區區域的凸起具有與功能區域相同的紋理。

13.權利要求5的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內蓄存區區域的凸起具有與功能區域相同的紋理。

14.權利要求7的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內蓄存區區域的凸起具有與功能區域相同的紋理。

15.權利要求10的壓模，其特征在于所述具有更大的容積的區間內蓄存區區域的凸起具有與功能區域相同的紋理。

16.權利要求1-3中任一項的壓模，其特征在于與功能區域的容積相比刻印紋理包括在邊緣具有1.5至20倍的更大的空的容積的區間。

17.權利要求4的壓模，其特征在于與功能區域的容積相比刻印紋理包括在邊緣具有1.5至20倍的更大的空的容積的區間。

18.權利要求5的壓模，其特征在于與功能區域的容積相比刻印紋理包括在邊緣具有1.5至20倍的更大的空的容積的區間。

19.權利要求7的壓模，其特征在于與功能區域的容積相比刻印紋理包括在邊緣具有1.5至20倍的更大的空的容積的區間。