[發(fā)明專利]磁記錄介質有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680009030.6 | 申請日： | 2016-07-15 |
| 公開（公告）號： | CN107210047B | 公開（公告）日： | 2019-07-30 |
| 發(fā)明（設計）人： | 森谷友博;中田仁志;島津武仁 | 申請（專利權）人： | 富士電機株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/65 | 分類號： | G11B5/65 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 劉強 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 記錄 介質 | ||
【權利要求書】：
1.磁記錄介質，其為包含基板和磁記錄層的磁記錄介質，其特征在于，所述磁記錄層包含具有Fe、Pt和Rh的有序合金，所述具有Fe、Pt和Rh的有序合金的Fe/Pt之比為1.2以上，所述具有Fe、Pt和Rh的有序合金的Rh含量為1.5原子％以上且8原子％以下，所述具有Fe、Pt和Rh的有序合金的Fe含量為50.6原子％以上。
2.權利要求1所述的磁記錄介質，其特征在于，變動量為90％以下。
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