[發明專利]研磨墊

有效

• 申請號: 201680006010.3
• 申請日: 2016-03-14
• 公開（公告）號: CN107107307B
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 村上陽平;大嶋伸之;中野裕之
• 申請（專利權）人: 霓達杜邦股份有限公司
• 主分類號: B24B37/24
• 分類號: B24B37/24;C08G18/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋融冰

本發明是一種研磨墊，其由發泡聚氨酯形成，通過25℃下的脈沖NMR測定求出的所述發泡聚氨酯中的S相的含有比例大于70％。

相關申請的相互參照

本申請主張日本特愿2015-068387號的優先權，通過引用并入本申請說明書的記載。

技術領域

本發明涉及一種研磨墊。

背景技術

為了對用作半導體基板的硅晶片等被研磨物進行研磨，廣泛使用由發泡聚氨酯形成的研磨墊(例如，專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2015-6729號公報。

發明內容

發明要解決的問題

但是，對于以往的研磨墊而言，用研磨墊研磨被研磨物，則產生摩擦熱，其結果是，由于該摩擦熱使硬度變化。

因此，以往的研磨墊存在不能充分地研磨被研磨物的情況、損傷被研磨物的情況，存在不能穩定地研磨被研磨物的問題。

因此，本發明鑒于上述問題，其課題在于，提供一種由溫度變化引起的硬度的變化小的研磨墊。

用于解決問題的方案

本發明是一種研磨墊，其由發泡聚氨酯形成，

通過25℃下的脈沖NMR測定求出的所述發泡聚氨酯中的S相的含有比例大于70％。

而且，本發明的研磨墊的一實施方式中，通過在60℃下的脈沖NMR測定求出的所述發泡聚氨酯中的S相的含有比例與通過25℃下的脈沖NMR測定求出的所述發泡聚氨酯中的S相的含有比例之比為80％以上。

具體實施方式

以下，對本發明的一實施方式進行說明。

本實施方式的研磨墊由發泡聚氨酯形成。

通過25℃下的脈沖NMR測定求出的所述發泡聚氨酯中的S相的含有比例大于70％，優選為80～100％，更優選為90～100％。

另外，在脈沖NMR測定中，將發泡聚氨酯分為自旋-自旋弛豫時間小于0.03ms的相(短相)(S相)、自旋-自旋弛豫時間為0.03ms以上且小于0.2ms的相(中間相)(M相)、自旋-自旋弛豫時間為0.2ms以上的相(長相)(L相)，分別求出各個相的含有比例。

自旋-自旋弛豫時間能夠通過，例如，使用JEOL制造的“JNM-MU25”，實施采用固體回波(Solid Echo)法的測定而求出。

在脈沖NMR中，將施加了脈沖磁場后的經過時間設為t(ms)，將t＝0時的磁化設為M₀，將時間t時的磁化設為M(t)，基于下述數學式求出自旋-自旋弛豫時間(T₂)。

另外，下述數學式中的“W”表示威布爾系數(Weibull Modulus)。

[數學式1]

并且，將測定對象分解成n個成分時，關于第i個(i＜n)的成分，將t＝0時的該i成分的磁化設為M_0i，將i成分的威布爾系數設為W_i，基于下述數學式求出i成分的自旋-自旋弛豫時間(T_2i)、以及i成分的比例Fi。

例如，威布爾系數Wi能夠使用W_S＝2、W_M＝1、W_L＝1。