[實(shí)用新型]氯化法鈦白粉生產(chǎn)工藝中高溫濾袋器的下料系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201621431985.4
• 申請(qǐng)日: 2016-12-23
• 公開（公告）號(hào): CN206494732U
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉建良;普建國;楊曉東;錢春花;陳衛(wèi);李雪青;龍翔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 云南冶金新立鈦業(yè)有限公司
• 主分類號(hào): C01G23/07
• 分類號(hào): C01G23/07
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201
• 代理人: 趙天月

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于氯化法鈦白粉生產(chǎn)制造領(lǐng)域，具體而言，本實(shí)用新型涉及氯化法鈦白粉生產(chǎn)工藝中高溫濾袋器的下料系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有氯化法制備鈦白粉的工藝如下：用高鈦渣或金紅石與石油焦、氯氣在氯化工序中反應(yīng)生成粗TiCl₄，粗TiCl₄經(jīng)過精制提純后生成精TiCl₄，精TiCl₄經(jīng)過氣化加熱與熱氧在氧化爐里反應(yīng)生成金紅石型TiO₂和氯氣，然后將金紅石型TiO₂、氯氣和多余的氧氣通入高溫濾袋器中進(jìn)行氣固分離，氯氣及多余的氧氣返回到氯化工序，成品TiO₂從高溫袋濾器下料管經(jīng)過兩個(gè)旋轉(zhuǎn)閥下到基料制漿槽中，脫氯后經(jīng)后處理工序生產(chǎn)出不同用途的產(chǎn)品。氧化工序是全密閉、高溫高壓、有毒氯氣參與的反應(yīng)的過程，反應(yīng)速率快，且對(duì)設(shè)備要求極高，對(duì)產(chǎn)品的粒度、金紅石轉(zhuǎn)化率、TiO₂的含量以及雜質(zhì)含量等需進(jìn)行精準(zhǔn)的控制。此生產(chǎn)工序只能在交換槽或是基料制漿過程中取到已進(jìn)一步加工的鈦白粉基料，無法直接了解到從高溫濾袋器中出來的鈦白粉干基料的質(zhì)量，而取樣分析是了解產(chǎn)品質(zhì)量的唯一途徑。但想要從在氯化法生產(chǎn)鈦白粉中有高溫高壓有毒有害氣體參與的密閉容器中取樣，不僅操作難度大且安全隱患較高。

因此，現(xiàn)有氯化法鈦白粉生產(chǎn)工藝中高溫濾袋器的下料系統(tǒng)有待進(jìn)一步改進(jìn)。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問題之一。為此，本實(shí)用新型的一個(gè)目的在于提出一種氯化法鈦白粉生產(chǎn)工藝中高溫濾袋器的下料系統(tǒng)。采用該系統(tǒng)有效解決了氯化法鈦白粉生產(chǎn)中氧化工序全密閉、高溫高壓、有毒氯氣參與反應(yīng)的過程中無法取干鈦白粉、取樣難度大及安全隱患高等問題。如此可及時(shí)的了解鈦白粉的質(zhì)量，并及時(shí)通過調(diào)整原料配比、壓力及溫度來提高鈦白粉的品位。

在本實(shí)用新型的一個(gè)方面，本實(shí)用新型提出了一種氯化法鈦白粉生產(chǎn)工藝中高溫濾袋器的下料系統(tǒng)。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述系統(tǒng)包括：

高溫濾袋器，所述高溫濾袋器具有氧化產(chǎn)物入口、鈦白粉出口和含有氧氣的氯氣出口；

下料管道，所述下料管道自上而下依次布置有第一旋轉(zhuǎn)閥和第二旋轉(zhuǎn)閥，并且所述下料管道的上端與所述鈦白粉出口相連；

基料制漿裝置，所述基料制漿裝置具有鈦白粉入口、脫鹽水入口和漿料出口，所述鈦白粉入口與所述下料管道的下端相連；

第一氮?dú)夤┙o裝置，所述第一氮?dú)夤┙o裝置具有第一氮?dú)饪偣堋⒌谝坏獨(dú)庵Ч芎偷诙獨(dú)庵Ч埽龅谝坏獨(dú)饪偣芊謩e與所述第一氮?dú)庵Ч芎退龅诙獨(dú)庵Ч芟噙B，所述第一氮?dú)庵Ч芘c所述下料管道上的第一旋轉(zhuǎn)閥上段的管道相連，并且所述第一氮?dú)饪偣苌喜贾糜械谝婚y門，所述第二氮?dú)庵Ч苌喜贾糜械诙y門；

第二氮?dú)夤┙o裝置，所述第二氮?dú)夤┙o裝置具有第二氮?dú)饪偣堋⒌谌獨(dú)庵Ч芎偷谒牡獨(dú)庵Ч埽龅诙獨(dú)饪偣芊謩e與所述第三氮?dú)庵Ч芎退龅谒牡獨(dú)庵Ч芟噙B，所述第三氮?dú)庵Ч芘c所述下料管道上的第二旋轉(zhuǎn)閥下段的管道相連，所述第二氮?dú)饪偣苌喜贾糜械谌y門，所述第三氮?dú)庵Ч苌喜贾糜械谒拈y門，所述第四氮?dú)庵Ч苌喜贾糜械谖彘y門，所述第二氮?dú)庵Ч芘c所述第四氮?dú)庵Ч芟噙B；

取樣裝置，所述取樣裝置與所述第四氮?dú)庵Ч芟噙B。