[實用新型]勻場片組件及核磁共振成像系統有效
| 申請號: | 201621370999.X | 申請日: | 2016-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN206757020U | 公開(公告)日: | 2017-12-15 |
| 發明(設計)人: | 潘軍;林劍;黃先睿;趙燕;周云 | 申請(專利權)人: | 飛利浦(中國)投資有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/385 | 分類號: | G01R33/385;A61B5/055 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司72002 | 代理人: | 蔡洪貴 |
| 地址: | 200070 上海市閘*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 勻場片 組件 核磁共振成像 系統 | ||
1.一種勻場片組件,其特征在于,所述勻場片組件包括:
保持架,所述保持架包括縱向延伸的底板,所述底板上具有沿著所述底板縱向間隔設置并且用于接收勻場片疊堆的多個勻場片接收部;
安放在每個所述勻場片接收部處并且由疊置在一起的多個勻場片構成的勻場片疊堆;
將所述勻場片疊堆固定到所述保持架上的緊固件;
設置在所述底板上所述勻場片接收部之間并且從所述底板向上延伸的間斷凸緣,所述間斷凸緣單獨或者與安裝在所述勻場片疊堆上的鎖片一起形成用于防止所述勻場片疊堆相對于所述保持架移位的限位裝置;
其中,所述限位裝置在與所述底板的縱向方向垂直的橫向方向上具有突出的突出部,所述突出部與容納所述勻場片組件并沿著梯度線圈軸向延伸的狹槽的側壁接觸,使得所述勻場片組件除所述突出部之外的部分與所述狹槽在沿著所述梯度線圈的周向的方向上形成間隙。
2.如權利要求1所述的勻場片組件,其特征在于,所述凸緣設置在所述底板的兩縱向側邊并且低于所述勻場片疊堆的高度,所述鎖片抵靠所述凸緣,從而與所述凸緣一起形成所述限位裝置。
3.如權利要求2所述的勻場片組件,其特征在于,所述鎖片在橫向方向上的長度大于所述保持架在橫向方向上的寬度,使得所述突出部由所述鎖片形成。
4.如權利要求2所述的勻場片組件,其特征在于,所述突出部沿著所述橫向方向從所述凸緣向外突出。
5.如權利要求1所述的勻場片組件,其特征在于,所述凸緣相對地設置在所述底板上并且等于或高于所述勻場片疊堆的高度,所述凸緣單獨形成所述限位裝置。
6.如權利要求5所述的勻場片組件,其特征在于,所述突出部形成在所述凸緣上。
7.如權利要求1所述的勻場片組件,其特征在于,所述突出部與所述側壁形成線接觸或點接觸。
8.一種勻場片組件,其特征在于,所述勻場片組件包括:
保持架,所述保持架包括縱向延伸的底板,所述底板上具有沿著所述底板縱向間隔設置并且用于接收勻場片疊堆的多個勻場片接收部;
安放在每個所述勻場片接收部處并且由疊置在一起的多個勻場片構成的勻場片疊堆;
將所述勻場片疊堆固定到所述保持架上的緊固件;
沿著與所述底板的縱向方向垂直的橫向方向突出地設置的至少兩個突出部,所述突出部與容納所述勻場片組件并沿著梯度線圈軸向延伸的狹槽的側壁接觸,使得所述勻場片組件除所述突出部之外的部分與所述狹槽在沿著所述梯度線圈的周向的方向上形成間隙。
9.如權利要求8所述的勻場片組件,其特征在于,所述勻場片組件還包括通過所述緊固件選擇性地固定到所述勻場片疊堆上的墊片,所述墊片在橫向方向上的長度大于所述保持架在橫向方向上的寬度,使得所述突出部由所述墊片形成。
10.如權利要求8所述的勻場片組件,其特征在于,所述勻場片組件還包括選擇性地設置在所述底板上的支撐塊,所述突出部是在所述橫向方向上超過所述保持架的寬度從所述支撐塊上凸出的部分球狀凸出部。
11.如權利要求10所述的勻場片組件,其特征在于,所述部分球狀凸出部是設置在所述支撐塊上的萬向球。
12.如權利要求10所述的勻場片組件,其特征在于,所述部分球狀凸出部還包括設置在所述底板的底側上的萬向球。
13.如權利要求8-12任一所述的勻場片組件,其特征在于,所述底板和構成所述勻場片疊堆的每個勻場片形成有形狀匹配部,以便在所述勻場片疊堆被設置在所述底板上時限制所述勻場片疊堆相對于所述底板的移動。
14.如權利要求1或8所述的勻場片組件,其特征在于,所述突出部設置成當所述勻場片組件被插入核磁共振成像系統的梯度線圈上的狹槽中時靠近所述梯度線圈內的制冷管路。
15.一種核磁共振成像系統,其特征在于,所述核磁共振成像系統包括如權利要求1-14任一所述的勻場片組件。
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