[實用新型]防止曝光光罩污染的裝置及曝光裝置

有效

• 申請號: 201621100550.1
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN206209288U
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 李會麗;李喆;李志丹
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅,李時云

1.一種防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述防止曝光光罩污染的裝置包括：

氣體供給模塊，設置在曝光光罩下方并且包括上層出風口和下層出風口，所述上層出風口和下層出風口形成包括上層等離子氣流和下層壓縮空氣流的雙層氣幕，所述下層壓縮空氣流產生的剪切力帶走大部分揮發物，所述上層等離子氣流與進入其中的剩余的揮發物發生化學反應以將所述剩余的揮發物轉變成非污染的小分子物質；

氣體回收模塊，與所述氣體供給模塊相對地設置，所述氣體回收模塊回收并排放所述氣體供給模塊形成的氣流、大部分揮發物和非污染的小分子物質。

2.如權利要求1所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述上層出氣口和下層出氣口是能夠按需改變孔徑的可調式出風口。

3.如權利要求2所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述防止曝光光罩污染的裝置還包括氣流檢測單元、氣流調控單元和控制單元，所述氣流檢測單元和氣流調控單元均連接至所述控制單元，所述氣流檢測單元檢測所述等離子氣流的流速和壓縮空氣流的流速并將檢測到的流速發送給所述控制單元，所述氣流調控單元在所述控制單元的控制下改變所述可調式出風口的孔徑以調節所述等離子氣流的流速和所述壓縮空氣流的流速。

4.如權利要求3所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述防止曝光光罩污染的裝置還包括用于檢測揮發物的濃度的揮發物濃度檢測單元，所述揮發物濃度檢測單元連接至所述控制單元，所述控制單元根據檢測到的揮發物的濃度來設定所述等離子氣流的流速和所述壓縮空氣流的流速。

5.如權利要求4所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述氣體供給模塊包括供氣模塊和氣刀，所述供氣模塊用于向所述氣刀提供等離子氣體和壓縮空氣，所述上層出風口和下層出風口設置在所述氣刀上。

6.如權利要求5所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述上層出氣口和下層出氣口各包括一排出氣孔，每排出氣孔沿所述氣刀的寬度方向均勻排列。

7.如權利要求6所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，每個出氣孔上安裝有噴嘴。

8.如權利要求7所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述防止曝光光罩污染的裝置還包括支架，所述支架用于將所述氣刀固定在曝光光罩的下方。

9.如權利要求8所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述氣刀的寬度大于或等于曝光場的尺寸。

10.如權利要求9所述的防止曝光光罩污染的裝置，其特征在于，所述支架上設置有導軌，所述導軌在控制單元的控制下調節所述氣刀的位置。

11.一種曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置包括如權利要求1-10中任一項所述的防止曝光光罩污染的裝置。

12.如權利要求11所述的曝光裝置，其特征在于，所述防止曝光光罩污染的裝置安裝在所述曝光裝置的曝光光罩的下方。

13.如權利要求11所述的曝光裝置，其特征在于，所述防止曝光光罩污染的裝置與所述曝光裝置集成。