[實(shí)用新型]一種家用燃?xì)庠钊h(huán)鍋支架有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201621014149.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-08-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206207503U | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 任富佳;陳六明;胡松方 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州老板電器股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | F24C15/10 | 分類號(hào): | F24C15/10 |
| 代理公司: | 杭州杭誠(chéng)專利事務(wù)所有限公司33109 | 代理人: | 尉偉敏,方琦 |
| 地址: | 311100 浙江省杭州*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 家用 燃?xì)庠?/a> 三環(huán)鍋 支架 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及到一種燃?xì)庠铄伡埽绕渖婕暗揭环N具有攏熱、節(jié)能且降低面板和操作旋鈕溫升的家用燃?xì)庠钊h(huán)鍋支架。
背景技術(shù)
目前市場(chǎng)上的燃?xì)庠铄伡芏鄶?shù)采用單環(huán)鍋支架,即一個(gè)底圈設(shè)有幾個(gè)角片,功能就是支撐鍋具加熱使用,功能比較單一,且角片又為敞開式,一方面,火焰受外來風(fēng)的影響較大,另一方面,熱量也容易向外擴(kuò)散造成能量損耗,同時(shí),擴(kuò)散的熱量又容易引起面板和操作旋鈕處的溫升,降低燃?xì)庠畹氖褂脡勖?/p>
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型主要解決現(xiàn)有灶具鍋支架熱量損失且面板和操作旋鈕溫升較高的技術(shù)問題;提供了一種具有攏熱、節(jié)能且降低面板和操作旋鈕溫升的家用燃?xì)庠钊h(huán)鍋支架。
為了解決上述存在的技術(shù)問題,本實(shí)用新型主要是采用下述技術(shù)方案:
本實(shí)用新型的一種家用燃?xì)庠钊h(huán)鍋支架,置于承液盤上,用于支撐鍋具,所述三環(huán)鍋支架包括底圈,所述底圈與承液盤上的定位環(huán)槽相吻合且嵌設(shè)于定位環(huán)槽內(nèi),底圈上環(huán)狀分布有若干豎向角片,所述豎向角片底部與底圈固接,多件豎向角片頂部形成鍋具的支撐點(diǎn),豎向角片上設(shè)有與底圈同軸的環(huán)帶,所述環(huán)帶直徑大于底圈直徑,環(huán)帶底面與底圈上表面設(shè)有間隔,底圈可將鍋支架方面穩(wěn)固地放置在承液盤上,較大直徑的環(huán)帶構(gòu)成燃?xì)庠畹木勰芙Y(jié)構(gòu),攏熱且導(dǎo)風(fēng),有效減少了熱量損失,同時(shí)也降低了面板和操作按鈕表面的溫升。
作為優(yōu)選,所述豎向角片外側(cè)邊沿設(shè)有凹槽,所述凹槽寬度與所述環(huán)帶的高度相吻合,環(huán)帶嵌設(shè)于凹槽內(nèi),通過凹槽,環(huán)帶可以快速穩(wěn)固地安裝在角片上。
作為優(yōu)選,所述豎向角片的凹槽為兩個(gè),包括上凹槽和下凹槽,所述環(huán)帶為兩件,包括上環(huán)帶和下環(huán)帶,所述上環(huán)帶嵌設(shè)于上凹槽內(nèi),所述下環(huán)帶嵌設(shè)于下凹槽內(nèi),相互間隔的雙層環(huán)帶,既實(shí)現(xiàn)了鍋支架聚能攏熱的效果,又保證了燃燒器外焰火二次空氣的補(bǔ)給,使燃燒更充分;同時(shí),環(huán)帶減少了輻射熱,也有效降低了面板和操作旋鈕表面的溫升,延長(zhǎng)了灶具的使用壽命。
作為優(yōu)選,所述上環(huán)帶頂面與所述豎向角片上端面距離為10~16mm,上環(huán)帶底面與所述下環(huán)帶頂面距離為5~8mm。
作為優(yōu)選,所述底圈上設(shè)有定位卡孔,所述定位卡孔與承液盤上的定位凸柱相吻合且套設(shè)于所述定位凸柱,鍋支架通過定位卡孔插入承液盤的定位凸柱上并與承液盤卡接,可防止鍋支架沿承液盤的定位環(huán)槽旋轉(zhuǎn),使得鍋支架更加穩(wěn)固。
作為優(yōu)選,所述定位卡孔設(shè)于所述底圈外緣,呈半圓狀,開口朝外,使鍋支架安裝更加方便快捷。
本實(shí)用新型的有益效果是:鍋支架采用三環(huán)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),在角片上設(shè)置相互間隔的雙層環(huán)帶,既實(shí)現(xiàn)了鍋支架聚能攏熱的效果,又保證了二次空氣的補(bǔ)給,使燃燒更充分,同時(shí),環(huán)帶減少了輻射熱,也有效降低了面板和操作旋鈕表面的溫升,延長(zhǎng)了灶具的使用壽命,而且,通過鍋支架底圈以及底圈上的定位卡孔與承液盤上的定位環(huán)槽和定位凸柱配合,則可將鍋支架準(zhǔn)確定位于承液盤上,防止鍋支架的旋轉(zhuǎn)滑鍋。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的一種結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1結(jié)構(gòu)的俯視示意圖。
圖中1.底圈,11.定位卡孔,2.豎向角片,21.凹槽,3.環(huán)帶,
具體實(shí)施方式
下面通過實(shí)施例,并結(jié)合附圖,對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說明。
實(shí)施例:本實(shí)施例的一種家用燃?xì)庠钊h(huán)鍋支架,置于承液盤上,用于支撐鍋具,如圖1和圖2所示,三環(huán)鍋支架包括底圈1,底圈與承液盤上的定位環(huán)槽相吻合且嵌設(shè)于定位環(huán)槽內(nèi),底圈上加工有半圓形定位卡孔11,定位卡孔與承液盤上的定位凸柱相吻合且套設(shè)于定位凸柱上;底圈上環(huán)狀分布有四件豎向角片2,豎向角片底部與底圈固接且方向朝向底圈中軸線,豎向角片頂部形成鍋具的支撐點(diǎn),豎向角片上設(shè)置有與底圈同軸的環(huán)帶3,環(huán)帶直徑大于底圈直徑,環(huán)帶底面與底圈上表面設(shè)計(jì)有間隔,每件豎向角片外側(cè)邊沿均設(shè)計(jì)有兩個(gè)凹槽21,包括上凹槽和下凹槽,凹槽寬度與環(huán)帶的高度相吻合,環(huán)帶為兩件,包括上環(huán)帶和下環(huán)帶,上環(huán)帶嵌設(shè)于上凹槽內(nèi),下環(huán)帶嵌設(shè)于下凹槽內(nèi),上環(huán)帶頂面與豎向角片上端面距離為15mm,上環(huán)帶底面與下環(huán)帶頂面距離為6mm。
使用時(shí),將鍋支架的底圈插入灶具承液盤上的定位環(huán)槽,且使底圈上的定位卡孔對(duì)準(zhǔn)定位凸塊,鍋支架準(zhǔn)確穩(wěn)固地?cái)R置在承液盤上,然后,將鍋具放置在豎向角片頂端進(jìn)行烹飪,由于環(huán)帶的聚能攏熱作用,有效提高了灶具的熱效率,減少了火焰對(duì)灶具面板和操作旋鈕的熱輻射,降低了其表面溫升,同時(shí),鍋支架之間的縫隙也保證了烹飪過程中的二次空氣的補(bǔ)給。
在本實(shí)用新型的描述中,技術(shù)術(shù)語“上”、“下”、“前”、“后”、“內(nèi)”、“外”等表示方向或位置關(guān)系是基于附圖所示的方向或位置關(guān)系,僅是為了便于描述和理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案,以上說明并非對(duì)本實(shí)用新型作了限制,本實(shí)用新型也不僅限于上述說明的舉例,本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)范圍內(nèi)所做出的變化、改型、增添或替換,都應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于杭州老板電器股份有限公司,未經(jīng)杭州老板電器股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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