[實用新型]用于研究干式空心電抗器匝間絕緣老化過程的片狀試樣

有效

• 申請號: 201620087721.5
• 申請日: 2016-01-28
• 公開（公告）號: CN205317893U
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 姚遠航;聶洪巖;顧哲屹
• 申請（專利權）人: 哈爾濱理工大學
• 主分類號: G01R31/12
• 分類號: G01R31/12
• 代理公司: 哈爾濱市偉晨專利代理事務所(普通合伙) 23209
• 代理人: 李曉敏

1.用于研究干式空心電抗器匝間絕緣老化過程的片狀試樣，其特征在于：它包括第 一正方形片狀聚酯薄膜(1)、第二正方形片狀聚酯薄膜(2)、第三正方形片狀聚酯薄膜 (3)和環氧樹脂填充結構體(4)；所述第一正方形片狀聚酯薄膜(1)、第二正方形片 狀聚酯薄膜(2)和第三正方形片狀聚酯薄膜(3)由上至下依次緊密貼合，所述第二正方 形片狀聚酯薄膜(2)的中心位置開有正方形開口(5)，且第二正方形片狀聚酯薄膜(2) 的一側邊的中心位置開有流出口(6)，流出口(6)與正方形開口(5)連通，正方形開 口(5)內設有環氧樹脂填充結構體(4)。

2.根據權利要求1所述的一種用于研究干式空心電抗器匝間絕緣老化過程的片狀試 樣，其特征在于：所述第一正方形片狀聚酯薄膜(1)、第二正方形片狀聚酯薄膜(2)和 第三正方形片狀聚酯薄膜(3)的邊長均為10cm。

3.根據權利要求2所述的一種用于研究干式空心電抗器匝間絕緣老化過程的片狀試 樣，其特征在于：所述第一正方形片狀聚酯薄膜(1)、第二正方形片狀聚酯薄膜(2)和 第三正方形片狀聚酯薄膜(3)的厚度均為0.002mm。

4.根據權利要求3所述的一種用于研究干式空心電抗器匝間絕緣老化過程的片狀試 樣，其特征在于：所述正方形開口(5)的邊長為8cm。