[實(shí)用新型]激光直寫傾斜雙面曝光裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201620059992.X | 申請(qǐng)日: | 2016-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN205539921U | 公開(公告)日: | 2016-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐巍;趙華;張偉;王翰文;馬汝治 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇影速光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 徐州市三聯(lián)專利事務(wù)所 32220 | 代理人: | 周愛芳 |
| 地址: | 221000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光 傾斜 雙面 曝光 裝置 | ||
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





