[實(shí)用新型]研磨頭及研磨裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201620032022.0
• 申請(qǐng)日: 2016-01-13
• 公開（公告）號(hào): CN205271694U
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 譚巧敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造（天津）有限公司;中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號(hào): B24B37/11
• 分類號(hào): B24B37/11
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時(shí)云

1.一種研磨頭，所述研磨頭包括基座、吸附機(jī)構(gòu)及設(shè)置于所述基座和吸附 機(jī)構(gòu)之間并與兩者連接的密封圈，其特征在于，還包括至少一個(gè)主動(dòng)部件和至 少一個(gè)被動(dòng)部件，所述主動(dòng)部件固定于所述基座上，所述被動(dòng)部件固定于所述 吸附機(jī)構(gòu)上，所述主動(dòng)部件跟隨所述基座進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，并推動(dòng)所述被動(dòng)部件 進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，以帶動(dòng)所述吸附機(jī)構(gòu)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

2.如權(quán)利要求1所述的研磨頭，其特征在于，所述被動(dòng)部件為磁鐵桿，所 述主動(dòng)部件包括殼體和磁鐵，所述磁鐵套接于所述殼體中并沿所述殼體做伸縮 運(yùn)動(dòng)。

3.如權(quán)利要求2所述的研磨頭，其特征在于，所述磁鐵的自由端與所述磁 鐵桿的自由端的極性相同。

4.如權(quán)利要求2所述的研磨頭，其特征在于，所述磁鐵的自由端與所述磁 鐵桿的自由端的極性不同。

5.如權(quán)利要求1所述的研磨頭，其特征在于，所述主動(dòng)部件和所述被動(dòng)部 件均為磁鐵桿。

6.如權(quán)利要求5所述的研磨頭，其特征在于，所述主動(dòng)部件的自由端與所 述被動(dòng)部件的自由端的極性相同。

7.如權(quán)利要求5所述的研磨頭，其特征在于，所述主動(dòng)部件的自由端與所 述被動(dòng)部件的自由端的極性不同。

8.如權(quán)利要求5所述的研磨頭，其特征在于，所述主動(dòng)部件和所述被動(dòng)部 件均為永磁鐵桿。

9.如權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的研磨頭，其特征在于，所述主動(dòng)部件水 平固定于所述基座上，所述被動(dòng)部件豎直固定于所述吸附機(jī)構(gòu)上，所述主動(dòng)部 件推動(dòng)所述被動(dòng)部件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)時(shí)，所述主動(dòng)部件的自由端與所述被動(dòng)部件 的自由端相交疊。

10.如權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的研磨頭，其特征在于，所述吸附機(jī)構(gòu) 為底面具有凹槽的圓盤，所述基座為圓臺(tái)體或圓柱體，所述基座設(shè)置在所述吸 附機(jī)構(gòu)的頂面上，所述密封圈為環(huán)形圈，所述密封圈的內(nèi)徑邊緣套接于靠近所 述吸附機(jī)構(gòu)的所述基座上，所述密封圈的外徑邊緣套接于靠近所述基座的所述 吸附機(jī)構(gòu)上。

11.如權(quán)利要求10所述的研磨頭，其特征在于，所述主動(dòng)部件的數(shù)量為多 個(gè)，多個(gè)主動(dòng)部件沿所述基座的徑向均勻分布。

12.如權(quán)利要求1所述的研磨頭，其特征在于，所述主動(dòng)部件的數(shù)量小于 或等于所述被動(dòng)部件的數(shù)量。

13.一種研磨裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1～12中任一項(xiàng)所述研磨 頭。