[實用新型]大視場擺掃二維像移補償雙通道成像儀光學系統有效
| 申請號： | 201620030233.0 | 申請日： | 2016-01-13 |
| 公開（公告）號： | CN205539710U | 公開（公告）日： | 2016-08-31 |
| 發明（設計）人： | 況耀武;舒嶸;何志平;亓洪興;侯佳 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00;G02B17/08 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 視場 二維 補償 雙通道 成像 光學系統 | ||
【說明書】：
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