[實用新型]一種晶片清洗除砂裝置

有效

• 申請號: 201620011538.7
• 申請日: 2016-01-05
• 公開（公告）號: CN205308859U
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 徐亮
• 申請（專利權）人: 蘇州普銳晶科技有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;B08B3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種晶片生產裝置，具體涉及一種晶片清洗除砂裝置， 用于晶片安全高效生產。

背景技術

晶體是由石英晶片、支架、外殼等部分組成的。晶體的種類有49U、 49S、UM、SMD(表面貼裝)音叉晶體(表晶)。石英晶片和外圍電路組 成石英晶體器件。主要器件有：晶體濾波器、石英晶體振蕩器(PXO)、溫 補晶振(TCXO)、壓控振蕩器、(VCXO)、溫控振蕩器(OCXO)。人造水 晶棒經過切割、研磨、腐蝕等工序，加工成各種形狀的晶片，晶片的頻率 和厚度成反比，晶片的外觀、尺寸和形狀對晶片的特性影響很大。石英晶 片(半成品)經過焊接電極，安裝支架，封裝外殼等工序加工成成品的電 子元件--石英諧振器(簡稱晶體)。隨著現代工業的發展，頻率片的需求量 日增夜漲，現代的頻率片生產方式包括對角切割、測頻率、切長邊、磨長 邊、切短邊、磨短邊、煮膠等一系列的步驟，工序復雜，精度要求高。在 頻率片的加工過程中先將晶源切割成切片，研磨至指定頻率后，在將切片 切割，加工至需要的尺寸。

在晶片的眾多加工工序中，研磨，包括粗研磨以及精研磨工藝十分重 要，主要利用研磨機結合有機無機研磨劑，對晶片上下表面進行加工。在 晶片研磨后，需要對其清洗，以去除晶片表面的研磨劑，其中研磨砂的去 除尤其重要?，F有一般采用將晶片放入藍中，清水沖洗的方式，如此存在 清洗不凈的缺陷。

發明內容

本實用新型的發明目的是提供一種晶片清洗除砂裝置，可以均勻有效 的清洗晶片表面帶有中的砂。

為達到上述發明目的，本實用新型采用的技術方案是：一種晶片清洗 除砂裝置，包括工作臺、網框與不銹鋼格網；所述工作臺包括臺面以及支 撐腿；所述工作臺的臺面四周設有高度為2～3毫米的擋板；所述工作臺上 安裝有微波初洗槽、清水槽以及微波終洗槽；所述清水槽位于微波初洗槽 與微波終洗槽之間；所述微波初洗槽的邊緣高出工作臺臺面3～4毫米；所 述清洗槽邊緣高出工作臺臺面3～4毫米；所述微波終洗槽邊緣與工作臺臺 面齊平；所述網框由網框本體以及位于網框本體上部外側的支撐桿組成； 所述網框本體位于初洗槽內，利用支撐桿擔載于初洗槽邊緣；所述微波初 洗槽包括初洗槽體與設置于初洗槽體下方的微波發生器；所述微波終洗槽 包括終洗槽體與位于終洗槽體下方的微波發生器；所述清水槽上方設有清 水噴淋裝置，底部設有出水口；所述微波初洗槽上部裝有初洗進水管，側 壁設有初洗廢液排出管；所述初洗進水管上設有流量計；所述初洗廢液排 出管上設有閥門；所述微波終洗槽上部裝有終洗進水管，側壁設有終洗廢 液排出管；所述終洗進水管上設有流量計；所述終洗廢液排出管上設有閥 門；所述不銹鋼格網安裝于微波終洗槽的終洗槽體內，位于終洗廢液排出 管上方。

本實用新型中，洗槽是利用表面活性劑將研磨后的晶片表面帶有的研 磨劑以及研磨砂去除，分為初洗以及終洗，兩步之間還經過水洗，可以進 一步增加洗滌效果。洗槽都采用微波清洗的方式，都是有洗槽本體與微波 發生器組成，微波清洗可以有效的發揮表面活性劑的作用，將研磨材料從 晶片表面分離。微波發生器與槽體(初洗槽體以及終洗槽體)的組合方式 以及具體微波功率等參數不做限定，本領域技術人員根據槽體大小等因素 自行選擇，屬于常規手段；清水槽采用噴淋的方式沖洗，一方面減少微波 的能耗，另外流水洗滌利于沖洗干凈。

本實用新型中，各槽體安裝在工作臺臺面的方式不做限定，可以采用 常規焊接、螺絲連接或者在槽體上邊緣形成折邊，利用折邊懸掛；只要實 現槽體穿過臺面安裝在工作臺上即可。根據實際狀態，各槽體開口朝上； 微波初洗槽以及清水槽的邊緣高出工作臺臺面，是指槽體上表面高出臺面， 如此在槽體上表面與臺面之間形成高度差，當網框通過支撐桿放入微波初 洗槽或者清水槽中時，可以容易拿起；而且濺出的水不會回流至槽中，避 免再次污染晶片。

本實用新型中，微波初洗槽的微波發生器與微波終洗槽的微波發生器 底面位于同一水平面；為了增加整體穩定性，減少工作臺臺面的壓力，優 選在臺面下方設置支撐板，同時支撐微波初洗槽的微波發生器與微波終洗 槽的微波發生器?？梢詫⒅伟逯糜谖⒉ǔ跸床鄣奈⒉òl生器與微波終洗 槽的微波發生器下方；也可以將微波初洗槽的微波發生器與微波終洗槽的 微波發生器嵌入支撐板；只要能夠起到承載微波初洗槽與微波終洗槽的作 用即可。