[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法以及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611220093.4 | 申請日: | 2016-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN106773205B | 公開(公告)日: | 2019-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 曹可;楊成紹;操彬彬;韓領(lǐng) | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 以及 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,包括:
陣列基板,包括第一襯底基板以及設(shè)置在所述第一襯底基板上的源極、漏極、有源層以及設(shè)置在所述源極、所述漏極和所述有源層上的鈍化層;以及
對置基板,與所述陣列基板相對間隔設(shè)置且包括第二襯底基板,
其中,所述有源層包括源極區(qū)域、漏極區(qū)域以及所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域之間的溝道區(qū),所述對置基板還包括設(shè)置在所述第二襯底基板上的柵極,所述柵極與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層相對間隔設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其中,所述顯示面板被配置為彎曲以使得所述柵極與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層的間隔減小。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯示面板,其中,所述對置基板還包括:
保護層,設(shè)置在所述柵極靠近所述陣列基板的一側(cè),所述柵極所在位置處的保護層與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層相對間隔設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,其中,所述顯示面板被配置為彎曲以使得所述柵極所在位置處的所述保護層與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層接觸設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示面板,其中,所述柵極所在位置處的所述保護層突出于所述對置基板并形成突起,所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層凹向所述第一襯底基板并形成凹槽,所述突起被配置為在所述顯示面板彎曲時插入所述凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯示面板,其中,所述對置基板還包括:
多個濾光片;以及
黑矩陣,所述黑矩陣設(shè)置在各所述濾光片周邊,
其中,所述柵極在所述第二襯底基板上的正投影落入所述黑矩陣在所述第二襯底基板上的正投影。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板,其中,所述多個濾光片呈陣列排布,所述對置基板還包括:
柵線,沿所述陣列的行方向延伸,所述柵線與所述濾光片交疊。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板,其中,所述對置基板還包括:
隔墊物,所述隔墊物在所述第二襯底基板上的正投影落入所述黑矩陣在所述第二襯底基板上的正投影。
9.一種顯示面板的制作方法,包括:
在第一襯底基板上形成源極、漏極、有源層以及鈍化層以形成陣列基板,所述有源層包括源極區(qū)域、漏極區(qū)域以及所述源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間的溝道區(qū);
在第二襯底基板上形成柵極以形成對置基板;以及
將所述陣列基板和所述對置基板對盒,且使所述第一襯底基板的形成有所述源極、漏極、有源層以及鈍化層的一側(cè)面對所述第二襯底基板的形成有所述柵極的一側(cè),
其中,所述柵極與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層相對間隔設(shè)置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板的制作方法,還包括:
彎曲所述顯示面板以形成曲面顯示面板,以使得所述柵極與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層的間隔減小。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板的制作方法,還包括:
在所述彎曲所述顯示面板以形成曲面顯示面板之前,在所述柵極遠離所述第二襯底基板的一側(cè)形成保護層,
其中,所述柵極所在位置處的所述保護層與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層相對間隔設(shè)置。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示面板的制作方法,所述彎曲所述顯示面板以形成曲面顯示面板,以使得所述柵極與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層的間隔減小具體包括:彎曲所述顯示面板以形成曲面顯示面板,以使得所述柵極所在位置處的所述保護層與所述溝道區(qū)所在位置處的所述鈍化層接觸設(shè)置。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





