[發(fā)明專利]基于特征匹配的晶圓缺陷檢測方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611214743.4
• 申請日: 2016-12-26
• 公開（公告）號: CN106600600A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 杜娟;譚健勝;胡躍明
• 申請（專利權(quán)）人: 華南理工大學(xué)
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/10;G06T7/136;G06K9/46
• 代理公司: 東莞市十方專利代理事務(wù)所(普通合伙)44391
• 代理人: 黃云

1.一種基于特征匹配的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于包括如下步驟：

采集晶圓樣品圖像，將晶圓樣品圖像與芯片模版圖像進(jìn)行匹配，尋找晶圓樣品圖像中單個(gè)待檢測芯片區(qū)域；

芯片模版圖像和待檢測芯片圖像的特征點(diǎn)的特征向量進(jìn)行描述；

芯片模版圖像和待檢測芯片圖像的特征點(diǎn)進(jìn)行匹配，再對誤匹配點(diǎn)進(jìn)行剔除，根據(jù)匹配的結(jié)果完成待檢測芯片圖像的位置調(diào)整和校正；

對芯片模版圖像和配準(zhǔn)后的待檢測芯片圖像分別進(jìn)行二值化，實(shí)現(xiàn)芯片缺陷信息的提取。

2.如權(quán)利要求1所述的基于特征匹配的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于所述的采集晶圓樣品圖像，將晶圓樣品圖像與芯片模版圖像進(jìn)行匹配，尋找晶圓樣品圖像中單個(gè)待檢測芯片區(qū)域的方法如下：

首先按像素計(jì)算模板圖像與待搜索圖像的相似度量，然后找到最大或最小的相似度量區(qū)域作為匹配位置。

3.如權(quán)利要求2所述的基于特征匹配的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于所述的首先按像素計(jì)算模板圖像與待搜索圖像的相似度量，然后找到最大或最小的相似度量區(qū)域作為匹配位置的方法如下：

采用基于灰度值的模板匹配方法，基于灰度值的模板匹配方法將整幅圖像的灰度值作為相似度量，利用定義好的搜索策略按照從上到下、從左到右的順序在待搜索圖像中搜索符合條件的區(qū)域，通過設(shè)定一個(gè)指定大小的搜索窗口，在搜索窗口中進(jìn)行搜索比較；

待搜索圖像中目標(biāo)物的位姿通過平移來描述，模板由圖像t(r,c)來表示，其中的感興趣區(qū)域指定為T，模板匹配就是在待匹配圖像中按照一定順序平移模板感興趣區(qū)域T，然后計(jì)算待匹配圖像中該區(qū)域與模板感興趣區(qū)域的相似度量值s，相似度量由下式描述:

s(r,c)＝s{t(u,v),f(r+u,c+v)；(u,v)∈T}

其中s(r,c)表示基于灰度值計(jì)算的相似度量，t(u,v)表示模板中各點(diǎn)的灰度值，f(r+u,c+v)表示模板感興趣區(qū)域移到圖像當(dāng)前位置的灰度值；

求取相似度量的方法是計(jì)算兩圖像之間灰度值差值的絕對值之和SAD或所有差值的平方和SSD，SAD和SSD分別用以下兩式表示:

$SAD(r,c)=\frac{1}{n}\underset{(u,v)\∈T}{\Σ}|t(u,v)-f(r+u,c+v)|$

$SSD(r,c)=\frac{1}{n}\underset{(u,v)\∈T}{\Σ}{\[t(u,v)-f(r+u,c+v)\]}^2$

其中，n表示模板該興趣區(qū)域內(nèi)像素點(diǎn)的數(shù)量，即n＝|T|；對于SAD和SSD來說，相似度量的值越大，待搜索圖像與模板之間的差別也就越大。