[發(fā)明專利]具有淺浮雕圖案的陶瓷制品及制備工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611192478.4
• 申請(qǐng)日: 2016-12-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106587619B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許慶水
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福建省德化云水窯陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): C03C8/00
• 分類號(hào): C03C8/00;C04B41/89
• 代理公司: 泉州市泉慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35283
• 代理人: 傅德智

本發(fā)明涉及陶瓷制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種具有淺浮雕圖案的陶瓷制品及制備工藝。具有淺浮雕圖案的陶瓷制品，包括陶瓷坯體、設(shè)置于陶瓷坯體上的底釉層。本發(fā)明的具有淺浮雕圖案的陶瓷制品及制備工藝，尤其適合制作陶瓷表面凸起的浮雕造型，具有如下有優(yōu)點(diǎn)：一是使用特殊配制的淺浮雕釉，該淺浮雕釉可塑性好、易于成型，釉漿中引入了與陶瓷坯體的組分相同的素坯，使燒制出的浮雕紋理與陶瓷坯體結(jié)合緊密，牢固；二是制造藝難度低，成品率高；三是淺浮雕釉使用時(shí)吸附于吸水介質(zhì)上，釉面紋路和浮雕厚度都可通過(guò)吸水介質(zhì)的飽和度進(jìn)行調(diào)整；四是即使是細(xì)小的紋路也能清晰的表達(dá)，而且可以通過(guò)后期修補(bǔ)，所制成的浮雕效果立體感強(qiáng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及陶瓷制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種具有淺浮雕圖案的陶瓷制品及制備工藝。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的陶瓷釉面，其圖案平滑，缺乏立體感；而通常采用手工或機(jī)械方法在陶瓷素坯上加工浮雕形狀，再施釉，釉燒形成有立體浮雕的陶瓷，但這種做法工藝復(fù)雜，加工成本高。為解決上述問(wèn)題，申請(qǐng)?zhí)枮?3114204.4的發(fā)明專利申請(qǐng)公開(kāi)了一種在陶瓷釉面上產(chǎn)生凹凸浮雕的方法及其所使用的花紙涂料，該種方法先制作陶瓷制品素坯，貼花紙，排膜，施釉，再釉燒成為成品，使用該種方法通過(guò)在陶瓷素坯或其印刷花面形成不同表面張力的區(qū)域，使釉燒過(guò)程中流動(dòng)態(tài)的釉不能均勻分布于陶瓷表面，釉在印刷有本發(fā)明涂料的線條位置形成凹陷，在陶瓷釉面上形成精確、細(xì)小地凹部線條，從而產(chǎn)生浮雕效果。

浮雕的效果是要使雕刻物脫離原來(lái)材料的平面，使圖像造型浮突于表面，使用該種方法制作存在如下問(wèn)題：一是制作凸起的浮雕造型時(shí)，則需將陶瓷的大部分表面都貼上花紙，才能實(shí)現(xiàn)將紋路凸出陶瓷表面，生產(chǎn)成本高、工藝難度大；二是花紙表面的涂料與不同陶瓷坯體的結(jié)合程度肯定不同，適用性差，容易導(dǎo)致浮雕脫落、結(jié)合不緊密；三是印刷的花紙需要排膜、施釉、再釉燒，后施釉的方式容易影響浮雕圖案的紋路，對(duì)細(xì)小的紋路表達(dá)不清晰。

發(fā)明內(nèi)容

為克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明提供一種具有淺浮雕圖案的陶瓷制品及制備工藝。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下：具有淺浮雕圖案的陶瓷制品，包括陶瓷坯體、設(shè)置于陶瓷坯體上的底釉層，其特征在于：還包括設(shè)置于底釉層上的淺浮雕釉層，所述淺浮雕釉層組成按照重量份計(jì)如下：長(zhǎng)石40-45份、石英30-40份、高嶺土5-10份、陶瓷素坯5-10份、氧化鋁5-10份，且陶瓷素坯與陶瓷坯體的組分相同。

優(yōu)化的，淺浮雕釉層組成按照重量份計(jì)如下：長(zhǎng)石43份、石英31份、高嶺土8份、陶瓷坯體10份、氧化鋁8份。

優(yōu)化的，淺浮雕釉層組成按照重量份計(jì)如下：長(zhǎng)石41份、石英37份、高嶺土9份、陶瓷坯體7份、氧化鋁6份。

優(yōu)化的，淺浮雕釉層組成按照重量份計(jì)如下：長(zhǎng)石45份、石英35份、高嶺土5份、陶瓷坯體8份、氧化鋁7份。

一種具有淺浮雕圖案的陶瓷制品的制作工藝，其特征在于，制備上述的具有淺浮雕圖案的陶瓷制品，具體步驟如下：

步驟一，制作陶瓷坯體，將陶瓷坯體素?zé)尚停瞥商沾伤嘏鳎?/p>

步驟二，按照釉料原料配方稱重配比，將長(zhǎng)石、石英、高嶺土、氧化鋁和步驟一制得的陶瓷素坯粉碎、混合，加入濕球磨機(jī)中均勻球磨為含水率為45—55％的淺浮雕釉漿；

步驟三，在步驟一制成的陶瓷素坯表面上底釉，干燥待用；

步驟四，制作具有浮雕圖案的吸水介質(zhì)；

步驟五，將步驟三所制得具有浮雕圖案的吸水介質(zhì)浸入淺浮雕釉漿中，將吸收淺浮雕釉漿的浮雕吸水介質(zhì)固定于陶瓷坯體上，等待干燥；

步驟六，陶瓷坯體干燥后入窯經(jīng)燒制成型，燒制溫度為1230-1250℃，獲得具有淺浮雕圖案的陶瓷制品。

進(jìn)一步的，步驟四中具有浮雕圖案的吸水介質(zhì)為的鏤空結(jié)構(gòu)。