[發明專利]石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置

在審

• 申請號: 201611176848.5
• 申請日: 2016-12-19
• 公開（公告）號: CN106734880A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 付宇盼;李文強;張子民;鄧文強
• 申請（專利權）人: 洛陽市金峰鑄造有限公司
• 主分類號: B22C7/02
• 分類號: B22C7/02;B22C9/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明屬于鑄造技術領域，具體涉及一種石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置。

背景技術

目前，在石膏型精密鑄件生產過程中，傳統的灌漿方式是漿料通過固定注入口直接在型箱中充型，受蠟型形狀和型箱尺寸的影響較大。由于漿料的沖擊作用，注入位置選擇不準確，可能破壞蠟型，故灌漿時需不停調動型箱位置，生產效率低下。同時石膏型真空灌漿時的真空度不是絕對真空，攪拌時殘存的氣體如果不能及時排出，鑄件(特別是復雜曲面的鑄件)后期容易形成氣瘤等缺陷，嚴重影響鑄件表面質量。

有鑒于此，本發明人設計了一種石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置。

發明內容

本發明的目的在于提出一種能夠最大限度排出漿料中殘存氣體的石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置。

為實現上述目的，本發明是采用以下技術方案來實現。依據本發明提出的一種石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置，包括液流槽1、引流管2及相對設置的兩個支架3，該引流管2通過卡扣4限位于液流槽1上方，其上端與漿料注入口連通；該液流槽1底部設置有可拆卸的緩沖槽5，該緩沖槽5位于引流管2出口的下方；每個支架3上都開設一長槽31，長槽31兩端滑動設置有支撐腿6；所述液流槽1與兩個支架3通過長槽31滑動連接。

為實現上述目的，本發明還采用以下技術措施來進一步實現。

前述的石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置，所述引流管2上端通過法蘭7固接于真空灌漿罐頂部。

前述的石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置，所述液流槽1與兩個支架3通過長槽31內穿設的第一螺栓8滑動連接。

前述的石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置，所述長槽31兩端通過第二螺栓9滑動設置有支撐腿6。

前述的石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置，所述引流管2采用軟質管。

本發明提出的石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置具有以下優點：

1.軟質引流管引導漿料注入緩沖裝置，通過液流槽流入型箱，避免沖壞蠟型和常規灌注對型箱位置的苛刻要求，降低工人技術需求；

2.設置的可拆卸緩沖槽可降低漿料的沖擊力，減少紊流，便于漿料平穩流動的同時，方便清洗；

3.可移動固定支架和調節高度的支撐腿的綜合運用，可排除設備對型箱尺寸的限制性；

4.液流槽設置為開放式，漿料可大面積平緩流動，在真空作用下，可最大限度排除漿料中殘存的氣體，保證鑄件表面質量。

上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能更清楚了解本發明的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，并且為讓本發明的上述和其他目的、特征和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。

附圖說明

圖1是本發明石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置的立體示意圖。

圖2是本發明石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置的剖視示意圖。

圖3是本發明石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置的工作示意圖。

【主要元件符號說明】

1：液流槽

2：引流管

3：支架31：長槽

4：卡扣

5：緩沖槽

6：支撐腿

7：法蘭

8：第一螺栓

9：第二螺栓

10：真空灌漿罐

101：漿料注入口102：砂箱103：蠟型104：轉動操作臺

具體實施方式

為更進一步闡述本發明為達成預定發明目的所采取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本發明提出的石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置其具體實施方式、結構、特征及其功效，詳細說明如后。

請參閱圖1及圖2，本發明一種石膏型真空灌漿漿料引流緩沖裝置，包括液流槽1、引流管2及相對設置的兩個支架3，

該引流管2通過卡扣4限位于液流槽1上方，其上端通過法蘭7固接于真空灌漿罐10的頂部且與真空灌漿罐10頂部的漿料注入口101連通，便于漿料流入液流槽1內。具體的，卡扣4固接于液流槽1的側板上；

該液流槽1設置為開放式(即一側設置為開口)，其底部設置有可拆卸的緩沖槽5，該緩沖槽5位于引流管2出口的下方，可降低漿料的沖擊力，減少紊流，便于漿料平穩流動；

每個支架3上都開設一長槽31，長槽31兩端通過第二螺栓9滑動設置有支撐腿6；所述液流槽1與兩個支架3通過長槽31內穿設的第一螺栓8滑動連接。