[發明專利]一種電容屏折射率匹配膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201611154785.3
• 申請日: 2016-12-14
• 公開（公告）號: CN106589437B
• 公開（公告）日: 2020-01-14
• 發明（設計）人: 史良;徐倩倩;胡鑫;崔書海;何晶晶
• 申請（專利權）人: 合肥樂凱科技產業有限公司
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C09D175/04;C09D175/14;C09D167/06;C09D163/10;C09D161/06;C09D7/61;G06F3/044;C08L67/02
• 代理公司: 13108 石家莊冀科專利商標事務所有限公司
• 代理人: 李羨民;郭紹華

1.一種電容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述電容屏折射率匹配膜包含基材(10)，在所述基材(10)兩側分別設有第一預涂底層(20)及第二預涂底層(30)；在所述第一預涂底層(20)上形成防粘連硬涂層(40)，在所述第二預涂底層(30)上形成折射率匹配層(50)；所述第二預涂底層(30)和所述折射率匹配層(50)的折射率差值的絕對值小于0.03；其中，所述折射率匹配層是由高折射率涂料經過涂布后得到，所述高折射率涂料至少包含電離放射物質、金屬氧化物粒子和光引發劑，所述金屬氧化物粒子與所述電離放射物質重量比為1：1.7-1：1.2；

所述折射率匹配層(50)的折射率為1.65-1.75；

所述折射率匹配層(50)的厚度為0.5μm-2.0μm；

所述的防粘連硬涂層含有二氧化硅粒子，所述二氧化硅粒子的粒徑為0.1-0.2μm。

2.根據權利要求書1所述的電容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述金屬氧化物粒子的粒徑為0.01μm-0.15μm。

3.根據權利要求書2所述的電容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述金屬氧化物粒子為氧化鋯、氧化鈰、五氧化二鈮、二氧化鈦中的一種或幾種。

4.根據權利要求3所述的電容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述第二預涂底層(30)的折射率為1.62-1.72。

5.根據權利要求4所述的電容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘連硬涂層厚度為1.0μm-2.0μm。

6.一種制備如權利要求1-5任一項所述電容屏折射率匹配膜的方法，其特征在于，制備按以下步驟進行：

⑴、在基材的兩側分別形成第一預涂底層(20)和第二預涂底層(30)；

⑵、在所述第一預涂底層(20)上形成防粘連硬涂層(40)；

⑶、在所述第二預涂底層(30)上形成折射率匹配層(50)，所述第二預涂底層(30)和折射率匹配層(50)的折射率差值的絕對值小于0.03。