[發(fā)明專利]一種腔室和半導體設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611153582.2 | 申請日: | 2016-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN108231526B | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張超;耿波;邱國慶;彭文芳;鄧玉春 | 申請(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/34 | 分類號: | H01J37/34;C23C14/34;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京思創(chuàng)畢升專利事務所 11218 | 代理人: | 孫向民;廉莉莉 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導體設備 | ||
1.一種腔室,包括腔體、設置在所述腔體底部的基座、套置在所述腔體內(nèi)壁的屏蔽環(huán)、疊置在所述屏蔽環(huán)下部的上表面邊緣區(qū)域的遮蔽環(huán),且所述遮蔽環(huán)位于所述基座邊緣區(qū)域上方,其特征在于,還包括環(huán)繞所述基座外周壁固定設置的導通裝置,并且所述基座外周壁接地;
在工藝時,所述基座帶動所述導通裝置上升,當所述基座頂起所述遮蔽環(huán)時,所述遮蔽環(huán)與所述屏蔽環(huán)之間形成間隙,所述導通裝置將所述屏蔽環(huán)與所述基座外周壁進行電連接導通;
所述導通裝置包括:
安裝環(huán),所述安裝環(huán)固定環(huán)繞在所述基座外周壁,所述安裝環(huán)在遠離基座的一端設置有豎邊,在所述基座上升至工藝位時,能遮擋位于所述屏蔽環(huán)上的進氣孔;
彈性部件,所述彈性部件設置在所述安裝環(huán)上,并位于所述安裝環(huán)與所述屏蔽環(huán)之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室,其特征在于,所述安裝環(huán)在沿其半徑方向上的截面為“L”型,其中,
“L”型左側(cè)的豎邊對應的面與所述基座的側(cè)壁貼合,橫邊對應的面與所述基座的側(cè)壁垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腔室,其特征在于,所述“L”型橫邊的右端設置有所述豎邊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室,其特征在于,所述安裝環(huán)在沿其半徑方向上的截面包括橫邊和所述豎邊,其中,所述橫邊的左側(cè)固定在所述基座的側(cè)壁上,所述橫邊對應的面與所述基座的側(cè)壁垂直,所述橫邊的右端設置有所述豎邊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室,其特征在于,所述安裝環(huán)的材質(zhì)為鋁、銅或不銹鋼材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5任一所述的腔室,其特征在于,所述彈性部件焊接在所述安裝環(huán)的表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1~5任一所述的腔室,其特征在于,所述彈性部件為金屬簧片或?qū)щ娋€圈。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的腔室,其特征在于,所述金屬簧片為鈹銅簧片。
9.一種半導體設備,其特征在于,包括權(quán)利要求1~8任一所述腔室。
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