[發明專利]曝光裝置、曝光方法以及物品的制造方法

有效

• 申請號: 201611142628.0
• 申請日: 2016-12-13
• 公開（公告）號: CN106886131B
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發明（設計）人: 永井善之
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 孫蕾

1.一種曝光裝置，使用相移掩模對基板進行曝光，該相移掩模包含在基準波長下使透射光的相位相互不同的第1區域以及第2區域，所述曝光裝置的特征在于，包括：

第1變更部，變更對所述相移掩模進行照明的光的照明波長；

投影光學系統，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板；

第2變更部，變更所述投影光學系統的球面像差；以及

控制部，根據利用所述第1變更部變更為與所述基準波長不同的波長的所述照明波長及所述基準波長，控制利用所述第2變更部進行的所述球面像差的變更，

在變更為與所述基準波長不同的波長的所述照明波長下，對所述相移掩模進行照明，使用具有根據所述照明波長及所述基準波長變更了的所述球面像差的所述投影光學系統，將所述相移掩模的圖案圖像投影到所述基板。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部以抑制由于所述照明波長是與所述基準波長不同的波長而產生的所述相移掩模的圖案圖像的焦深降低的方式，控制利用所述第2變更部進行的所述球面像差的變更。

3.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部以使由于利用所述第1變更部將所述照明波長相對于所述基準波長變更30nm以上而產生的焦深的變化降低的方式，控制利用所述第2變更部進行的所述球面像差的變更。

4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

還包括射出包含多個亮線光譜的光的光源，

所述第1變更部通過使從所述光源射出的包含所述多個亮線光譜的光的波長頻帶變窄來變更所述照明波長。

5.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部根據表示所述投影光學系統的球面像差相對所述基準波長和變更后的所述照明波長之差的變更量的信息，控制所述第2變更部。

6.根據權利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部將所述照明波長變更為相互不同的多個波長的各個波長，針對所述多個波長的各個波長而求出焦深為最大的所述投影光學系統的球面像差，從而取得所述信息。

7.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述第2變更部通過使在所述投影光學系統中的光路上配置的光學元件移動，變更所述投影光學系統的球面像差。

8.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述第2變更部通過更換在所述投影光學系統中的光路上配置的光學元件，變更所述投影光學系統的球面像差。

9.根據權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，

所述投影光學系統包括凹面鏡以及凸面鏡，

所述光學元件包括在所述凹面鏡與所述凸面鏡之間的光路上配置的彎月面透鏡。

10.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

還包括變更散焦量的第3變更部，

所述控制部以校正控制所述第2變更部之后的散焦量的方式控制第3變更部。

11.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述基準波長是所述第1區域的透射光和所述第2區域的透射光的相位差為180度時的波長。