[發明專利]一種等離子體刻蝕石墨制備金剛石顆粒的方法

有效

• 申請號: 201611130191.9
• 申請日: 2016-12-09
• 公開（公告）號: CN106744931B
• 公開（公告）日: 2018-11-02
• 發明（設計）人: 朱嘉琦;姚凱麗;代兵;楊磊;趙繼文;舒國陽;劉康;韓杰才
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: C01B32/26
• 分類號: C01B32/26;C01B32/28
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 李紅媛

1.一種等離子體刻蝕石墨制備金剛石顆粒的方法，其特征在于一種等離子體刻蝕石墨制備金剛石顆粒的方法是按照以下步驟進行的：

一、石墨片的表面處理：

將石墨片用透明膠帶粘去表層，然后依次利用無水乙醇、丙酮及去離子水分別超聲清洗10min～20min，得到清洗后的石墨片，將清洗后的石墨片置于真空干燥箱中干燥，干燥溫度為60℃～80℃，時間為15min～30min，將干燥后的石墨片冷卻至室溫，得到表面處理后的石墨片；

步驟一中所述的石墨片為高定向熱解石墨片、鱗片石墨片、土狀石墨片或多晶石墨片；

步驟一中所述的石墨片的尺寸為10×10×1mm到30×30×10mm；

二、利用等離子體刻蝕法在石墨上制備金剛石：

將表面處理后的石墨片置于微波等離子化學氣相沉積裝置中，在氫氣流速為50sccm～1000sccm、溫度為900℃、壓強為200mbar及微波功率為1800W～5000W的條件下，沉積12h～24h，得到等離子體刻蝕石墨制備的金剛石；

三、分散金剛石顆粒：

將等離子體刻蝕石墨制備的金剛石從石墨片表面刮下，得到團聚的金剛石顆粒，用不銹鋼研缽研磨并敲打團聚的金剛石顆粒25min～35min，得到研磨后的金剛石顆粒，在水浴加熱溫度為50℃～80℃的條件下，將研磨后的金剛石顆粒置于質量百分數為20％～70％的硫酸中30min～1h，再用去離子水清洗金剛石顆粒，直至洗滌液的pH為7，然后依次利用丙酮及酒精分別超聲清洗25min～35min，得到清洗后的金剛石顆粒，最后將清洗后的金剛石顆粒置于真空干燥箱中進行干燥，即完成等離子體刻蝕石墨制備金剛石顆粒的方法。

2.根據權利要求1所述的一種等離子體刻蝕石墨制備金剛石顆粒的方法，其特征在于步驟二中將表面處理后的石墨片置于微波等離子化學氣相沉積裝置中，在氫氣流速為200sccm、溫度為900℃、壓強為200mbar及微波功率為1800W～5000W的條件下，沉積12h。