[發(fā)明專利]一種砷化鎵晶片打印激光標(biāo)識(shí)的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611122330.3
• 申請(qǐng)日: 2016-12-08
• 公開（公告）號(hào): CN106425105B
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹志穎;劉津
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所
• 主分類號(hào): B23K26/36
• 分類號(hào): B23K26/36;H01L23/544
• 代理公司: 天津中環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司12105
• 代理人: 胡京生

1.一種砷化鎵晶片打印激光標(biāo)識(shí)的方法，對(duì)采用LEC法、VB法或VGF法生長的砷化鎵單晶，斷掉單晶的頭尾，經(jīng)滾圓制作主次參考面，用線切割機(jī)切割成一定厚度晶片，并對(duì)晶片表面進(jìn)行化學(xué)腐蝕，然后經(jīng)過倒角和再次化學(xué)腐蝕后，對(duì)晶片進(jìn)行激光標(biāo)識(shí)；先將晶片按照從頭到尾的順序進(jìn)行排列，選定激光的參數(shù)在晶片表面進(jìn)行激光標(biāo)識(shí)，具體標(biāo)識(shí)尺寸參照《砷化鎵圓形晶片字母數(shù)字刻碼規(guī)范》進(jìn)行設(shè)定，其特征在于：所述選定激光的參數(shù)為，激光波長355nm，激光強(qiáng)度3W，標(biāo)識(shí)次數(shù)為3次，選定激光參數(shù)后進(jìn)行激光標(biāo)識(shí)，標(biāo)識(shí)深度為140～155μm，激光的種類為紫光；

激光標(biāo)識(shí)結(jié)束后對(duì)晶片表面進(jìn)行清潔處理，去除標(biāo)識(shí)周圍因打標(biāo)帶來的毛刺和顆粒，以保證晶片有較好的幾何參數(shù)和表面質(zhì)量，然后再進(jìn)行磨片及后續(xù)工序的處理。