[發(fā)明專利]氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置及工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611109263.1
• 申請(qǐng)日: 2016-12-06
• 公開（公告）號(hào): CN106395882B
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 杜宗鑫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杜宗鑫
• 主分類號(hào): C01G3/02
• 分類號(hào): C01G3/02
• 代理公司: 北京匯澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11228
• 代理人: 張秋越

1.一種氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，包括：浸出槽、分解沉淀槽和吸收裝置；其中浸出槽的放料口通過(guò)設(shè)有過(guò)濾裝置的管線連接分解沉淀槽的加料口，浸出槽的反應(yīng)氣出口連接所述吸收裝置的進(jìn)氣口，所述分解沉淀槽的混合氣出口通過(guò)設(shè)有冷凝器的管線連接所述吸收裝置的進(jìn)氣口；

其中，所述浸出槽包括：

浸出槽殼體，其頂部設(shè)有反應(yīng)氣出口，底部設(shè)有放料口；

循環(huán)管，其通過(guò)支撐件固定在所述浸出槽殼體內(nèi)部；

隔離套管，其套設(shè)在所述循環(huán)管外，并通過(guò)支撐件固定在所述浸出槽殼體內(nèi)部；其中，所述循環(huán)管與所述隔離套管之間形成的空間的頂部封閉；

設(shè)有一開口的孔板，其通過(guò)支撐件固定于所述浸出槽殼體內(nèi)，所述孔板的邊沿貼合固定在所述浸出槽殼體的內(nèi)壁，所述隔離套管的下端固定在孔板上，循環(huán)管的下端通過(guò)設(shè)在孔板的開口伸入孔板下方；

反應(yīng)氣進(jìn)口，其設(shè)置在浸出槽殼體外側(cè)，對(duì)應(yīng)位于所述孔板的下方，所述反應(yīng)氣進(jìn)口連接一進(jìn)氣管道，該進(jìn)氣管道通過(guò)設(shè)于所述循環(huán)管的管壁的開口與所述循環(huán)管連通；

其中，所述浸出槽殼體與所述隔離套管之間的空間為金屬加料區(qū)，所述金屬加料區(qū)位于所述孔板上方、所述循環(huán)管的上開口的下方，金屬原料裝填于所述金屬加料區(qū)；

其中，所述浸出槽的循環(huán)管與所述隔離套管之間形成的空間的底部開放，所述隔離套管的管壁下部開設(shè)有多個(gè)循環(huán)孔；

所述浸出槽的浸出槽殼體頂部的反應(yīng)氣出口下方設(shè)有加料孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述浸出槽的隔離套管的多個(gè)循環(huán)孔對(duì)應(yīng)位于所述隔離套管高度的二分之一以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述浸出槽的循環(huán)管的上開口上方設(shè)有循環(huán)擋板，所述循環(huán)擋板通過(guò)支撐架固定在所述循環(huán)管的上開口上方。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述浸出槽殼體的外側(cè)套設(shè)有冷卻套管。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述浸出槽的冷卻套管對(duì)應(yīng)位于所述孔板的上方、所述循環(huán)管的上開口的下方，所述冷卻套管的進(jìn)水口位于冷卻套管的下部，出水口位于冷卻套管的上部。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述浸出槽殼體、所述循環(huán)管、所述隔離套管和所述支撐件均為不銹鋼材質(zhì)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述分解沉淀槽，包括：

沉淀槽殼體，其包括自上而下相互連接的頂區(qū)、上連接區(qū)、消泡區(qū)、下連接區(qū)、速熱區(qū)和底區(qū)；所述頂區(qū)設(shè)有混合氣出口；所述上連接區(qū)設(shè)有空氣入口和加料口；所述底區(qū)設(shè)有放料口；

設(shè)有一開口的孔板，設(shè)于沉淀槽殼體內(nèi)對(duì)應(yīng)位于所述速熱區(qū)的底部以下，孔板的邊緣貼合固定在沉淀槽殼體的內(nèi)壁；

空氣攪拌管，其設(shè)于沉淀槽殼體內(nèi)部，一端連接所述空氣入口，另一端穿過(guò)所述孔板的開口伸入所述孔板下方的底區(qū)內(nèi)；

加熱盤管組，固定于孔板上；

其中，消泡區(qū)的內(nèi)徑大于速熱區(qū)的內(nèi)徑。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述分解沉淀槽的沉淀槽殼體的速熱區(qū)設(shè)有熱介質(zhì)入口和熱介質(zhì)出口，所述熱介質(zhì)入口連接所述加熱盤管組的入口，所述熱介質(zhì)出口連接所述加熱盤管組的出口。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述分解沉淀槽的加熱盤管組包括多個(gè)串聯(lián)的加熱盤管。

10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述分解沉淀槽的消泡區(qū)的內(nèi)徑為速熱區(qū)的內(nèi)徑的1.1倍以上。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述分解沉淀槽的消泡區(qū)的內(nèi)徑為速熱區(qū)的內(nèi)徑的1.1倍~5倍。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的裝置，其特征在于，所述分解沉淀槽還包括：第一保溫套管，其套設(shè)在所述沉淀槽殼體的設(shè)有加熱套管組的位置的外側(cè)，所述第一保溫套管的熱介質(zhì)入口連接設(shè)于所述速熱區(qū)的熱介質(zhì)出口。