[發(fā)明專利]偏光板用粘著膜及粘著組合物、偏光板及光學顯示器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611076250.9 | 申請日: | 2016-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN106811156B | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 崔柱烈;李昇勳;李承俊;韓仁天 | 申請(專利權)人: | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號: | C09J133/08 | 分類號: | C09J133/08;C09J11/06;C09J7/00;G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權代理有限公司 11205 | 代理人: | 陶敏;臧建明 |
| 地址: | 韓國京畿道龍仁*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電暈處理 偏光板 聚對苯二甲酸乙二酯膜 粘著組合物 光學顯示器 粘著層 剝離 環(huán)烯烴聚合物膜 異氰酸酯固化劑 丙烯酸共聚物 高濕度條件 依序堆疊 保護膜 氮丙啶 固化劑 膜形成 偏光片 雙官能 羧酸基 高粘 拉伸 羥基 制備 | ||
1.一種偏光板用粘著膜,其由粘著組合物形成,所述粘著組合物包括具有羥基及羧酸基的(甲基)丙烯酸共聚物、雙官能氮丙啶固化劑及異氰酸酯固化劑,其中所述(甲基)丙烯酸共聚物是包括含羥基的(甲基)丙烯酸單體、含羧酸基的(甲基)丙烯酸單體及含烷基的(甲基)丙烯酸單體的單體混合物的共聚物,
所述粘著膜具有滿足方程式4的粘著強度:
AS1≥2,500gf/25mm---(4),
其中AS1是當在300毫米/分鐘拉伸速度下以180°將試樣的經(jīng)電暈處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜從其經(jīng)電暈處理的粘著層剝離時的載荷,其中所述試樣是通過依序堆疊聚對苯二甲酸乙二酯膜/偏光片/環(huán)烯烴聚合物膜/由電暈處理所述粘著膜形成的粘著層/經(jīng)電暈處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜制備以及在25℃下靜置1天。
2.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中所述粘著膜滿足方程式5:
AS7-AS1≤500gf/25mm---(5),
其中AS1是當在300毫米/分鐘拉伸速度下以180°將試樣的經(jīng)電暈處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜從其經(jīng)電暈處理的粘著層剝離時的載荷,其中所述試樣是通過依序堆疊聚對苯二甲酸乙二酯膜/偏光片/環(huán)烯烴聚合物膜/由電暈處理所述粘著膜形成的粘著層/經(jīng)電暈處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜制備以及在25℃下靜置1天,及AS7是當在300毫米/分鐘拉伸速度下以180°將試樣的經(jīng)電暈處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜從其經(jīng)電暈處理的粘著層剝離時的載荷,其中所述試樣是通過依序堆疊聚對苯二甲酸乙二酯膜/偏光片/環(huán)烯烴聚合物膜/由電暈處理所述粘著膜形成的粘著層/經(jīng)電暈處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜制備以及在25℃下靜置7天。
3.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中根據(jù)JIS 2107所測量,所述粘著膜的剝離強度是100gf/25mm至500gf/25mm。
4.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中所述含烷基的(甲基)丙烯酸單體包括第一含烷基的(甲基)丙烯酸單體及第二含烷基的(甲基)丙烯酸單體,所述第一含烷基的(甲基)丙烯酸單體的均聚物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度是-10℃至-100℃,所述第二含烷基的(甲基)丙烯酸單體的均聚物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度是5℃至100℃。
5.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中所述單體混合物中所述含羥基的單體的存在量低于所述含羧酸基的單體。
6.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中相對于100重量份的所述(甲基)丙烯酸共聚物,所述雙官能氮丙啶固化劑的存在量是0.1重量份或小于0.1重量份。
7.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中相對于100重量份的所述(甲基)丙烯酸共聚物,所述異氰酸酯固化劑的存在量是1重量份或小于1重量份。
8.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中所述雙官能氮丙啶固化劑包括N,N'-六亞甲基-1,6-雙(1-氮丙啶甲酰胺)及N,N'-二苯基甲烷-4,4'-雙(1-氮丙啶甲酰胺)中的至少一種。
9.根據(jù)權利要求1所述的偏光板用粘著膜,其中所述異氰酸酯固化劑是三官能異氰酸酯固化劑。
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