[發明專利]一種吸波材料輻射影響仿真方法和系統

有效

• 申請號: 201611066834.8
• 申請日: 2016-11-25
• 公開（公告）號: CN106646035B
• 公開（公告）日: 2019-02-15
• 發明（設計）人: 康寧;吳紅森;袁巖興;黃建領
• 申請（專利權）人: 北京無線電計量測試研究所
• 主分類號: G01R31/00
• 分類號: G01R31/00
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 黃熊

1.一種吸波材料輻射影響仿真方法，用于電磁兼容暗室，所述電磁兼容暗室為封閉的六面體屏蔽室，其中五個內表面鋪設有吸波材料，其特征在于，包括以下步驟：

在所述電磁兼容暗室內建立輻射源和接收天線；

在所述輻射源關于每個所述鋪設有吸波材料的內表面的鏡像位置，分別建立一個等效輻射源，所述等效輻射源的強度為所述輻射源強度與所述吸波材料反射損耗的乘積；

在未鋪設吸波材料的內表面為良導體、去除鋪設有吸波材料內表面、保留等效輻射源的條件下計算所述接收天線接收到的輻射場強度，作為仿真場強度。

2.如權利要求1所述吸波材料輻射影響仿真方法，其特征在于，還包括以下步驟：

在鋪設有吸波材料內表面無反射的條件下計算所述接收天線收到的輻射場強度，作為理想場強度；

計算所述理想場強度和所述仿真場強度的差值。

3.一種吸波材料輻射影響仿真系統，用于仿真電磁兼容暗室，所述電磁兼容暗室為封閉的六面體屏蔽室，在所述電磁兼容暗室內有輻射源和接收天線，所述輻射源與第一內表面的距離為X₁；所述輻射源與第二內表面的距離為X₂；所述輻射源與第三內表面的距離為Y₁；所述輻射源與第四內表面的距離為Y₂；所述輻射源與第五內表面的距離為Z₁；所述輻射源與第六內表面的距離為Z₂；以所述輻射源為直角坐標系(x，y，z)的原點，所述第一內表面的位置為x＝X₁；所述第二內表面的位置為x＝-X₂；所述第三內表面的位置為y＝Y₁；所述第四內表面的位置為y＝-Y₂；所述第五內表面的位置為z＝Z₁；所述第六內表面的位置為z＝-Z₂；所述第一內表面、第二內表面、第三內表面、第四內表面、第五內表面均鋪設有吸波材料；所述第六內表面為良導體；其特征在于，所述仿真系統包含：仿真源、仿真接收天線、等效源；

所述等效源包含第一等效源、第二等效源、第三等效源、第四等效源、第五等效源；

所述仿真源，用于產生輻射場；所述仿真接收天線，用于接收所述輻射場；

以所述仿真源為直角坐標系(x’，y’，z’)的原點，則所述第一等效源的位置為(2X₁，0，0)，所述第二等效源的位置為(-2X₂，0，0)，所述第三等效源的位置為(0，2Y₁，0)，所述第四等效源的位置為(0，-2Y₂，0)，所述第五等效源的位置為(0，0，2Z₁)；

所述仿真接收天線相對于所述仿真源的位置，與所述接收天線相對于所述輻射源的位置相同；

所述第一等效源的強度為所述仿真源強度與所述第一內表面鋪設的吸波材料反射損耗的乘積；

所述第二等效源的強度為所述仿真源強度與所述第二內表面鋪設的吸波材料反射損耗的乘積；

所述第三等效源的強度為所述仿真源強度與所述第三內表面鋪設的吸波材料反射損耗的乘積；

所述第四等效源的強度為所述仿真源強度與所述第四內表面鋪設的吸波材料反射損耗的乘積；

所述第五等效源的強度為所述仿真源強度與所述第五內表面鋪設的吸波材料反射損耗的乘積；

z’＝-Z₂位置為良導體板。