[發(fā)明專利]一種單面涂覆熱熔膠鍍鋁屏蔽織物的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611063550.3
• 申請日: 2016-11-28
• 公開（公告）號: CN106758174B
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊志全;曾海軍;張新民
• 申請（專利權(quán)）人: 菏澤天源電子科技股份有限公司
• 主分類號: D06M11/83
• 分類號: D06M11/83;C23C14/35;C23C14/20;C09J7/21
• 代理公司: 濟南泉城專利商標事務(wù)所 37218
• 代理人: 張貴賓

本發(fā)明公開了一種單面涂覆熱熔膠鍍鋁屏蔽織物的制備方法，將基材在涂布線上放卷經(jīng)過無刮痕熱熔膠涂布頭，單面涂覆一層熱熔膠；將涂覆有熱熔膠的基材放置在真空室內(nèi)，真空室內(nèi)抽至負壓，然后向真空室內(nèi)通入氬氣，采用磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射鋁靶材，磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶源采用矩形平面磁控靶和同軸圓柱形磁控靶結(jié)合，構(gòu)成圓柱形、平面式磁控濺射靶。本發(fā)明在材料未做金屬涂層之前表面涂覆一層熱熔膠，然后再進行表面金屬層的加工，這樣織物做完涂層后硬度提高，減少了沉積金屬層工序起褶皺的幾率，提高了產(chǎn)品的成品率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于屏蔽材料制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種單面涂覆熱熔膠鍍鋁屏蔽織物的制備方法。

背景技術(shù)

在過去的二十幾年里，由電器設(shè)備的干擾而產(chǎn)生的問題即所謂的電磁輻射已成為人們普遍關(guān)注的一個熱點問題，電磁輻射波易使周圍的電子電器設(shè)備受到干擾，產(chǎn)生誤操作、圖像障礙或者聲音障礙，而且還會造成計算機信息泄漏等嚴重的社會問題。同時電視機、計算機，手機等常用電器的電磁輻射也會對人體產(chǎn)生危害。而近些年隨著各種電器的普及，電子計算機，通訊衛(wèi)星，高壓輸電網(wǎng)和一些醫(yī)用設(shè)備等的廣泛應(yīng)用，由此帶來的電磁污染越來越嚴重，為此，人們研究了適用于不同領(lǐng)域的各種電磁屏蔽技術(shù)，如鐵磁材料，良導(dǎo)體材料，復(fù)合材料及其他新型材料。

鋁金屬具有良好的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性、耐腐蝕性、吸引性及耐核輻射性等優(yōu)良性質(zhì)，并且具有良好的光電性能等優(yōu)良性質(zhì)。其優(yōu)異的光學性質(zhì)和電學性質(zhì)，使得鋁薄膜在微電子電路、薄膜電路和光學薄膜中被廣泛應(yīng)用。

鍍鋁膜層可以滿足反射可見光，有效阻隔紫外線和紅外線的輻射。材料質(zhì)輕，耐高溫，收縮率小，具有極好的阻燃特性和機械性能、優(yōu)異的柔性和彈性，滿足高溫及危險作業(yè)場所對防護服面料的應(yīng)用需求。滿足反射可見光，有效阻隔紫外線和紅外線的輻射。用于太空服對日光的反射。亦可用于航空航天設(shè)備的屏蔽。

屏蔽材料是使絕緣體的表面附著一層導(dǎo)電層，從而達到屏蔽的目的，屬于以反射損耗為主的屏蔽材料。他們通常由化學鍍、真空蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射、金屬熔射以及貼金屬箔等方法制得。其中，適宜電鍍的塑料品種較少，而且需要特種技術(shù)，廢水排放量較大，化學鍍對身體和環(huán)境都有危害；蒸發(fā)鍍對于復(fù)雜形狀表面則成膜厚度的均勻性難于控制，金屬膜層附著力差，不適應(yīng)復(fù)雜嚴苛的工作環(huán)境；金屬熔射法的缺點是鍍金屬層與塑料之間的粘附力較差, 鍍層容易脫落, 需要特殊的熔射裝置且有些金屬有毒；貼金屬箔對于復(fù)雜形狀則施工操作非常困難；濺射鍍膜是在真空容器中將氬離子用高能量沖擊到金屬上使金屬原子逸出，然后在塑料織物等的表面形成金屬薄膜。濺射鍍也能適用于各種塑料，與蒸發(fā)鍍相比, 其鍍層金屬結(jié)合力更強，可以鍍制所有金屬薄膜及復(fù)合膜層，產(chǎn)品應(yīng)用廣泛，可以適應(yīng)復(fù)雜的電磁工作環(huán)境。

目前通過濺射鍍膜制備屏蔽織物是較為優(yōu)異的做法，但電磁屏蔽材料的發(fā)展趨勢是厚度向超薄方向發(fā)展，最薄可以做到0.003mm，這樣的材料對后序的加工工序造成極大困難，貼膠膜容易出現(xiàn)褶皺報廢，對分切設(shè)備和技術(shù)要求極高，且濺射鍍膜的均勻性和粘附力很難同時掌握。

發(fā)明內(nèi)容

為彌補現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種成品率高、粘附力強的單面涂覆熱熔膠鍍鋁屏蔽織物的制備方法。

本發(fā)明是通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)的：

一種單面涂覆熱熔膠鍍鋁屏蔽織物的制備方法，其特殊之處在于：包括以下步驟：

（1）將基材在涂布線上放卷經(jīng)過無刮痕熱熔膠涂布頭，單面涂覆一層熱熔膠，涂布克重10-20g/m²，涂布速度250-350m/min；

（2）將涂覆有熱熔膠的基材放置在真空室內(nèi)，真空室內(nèi)抽至負壓，然后向真空室內(nèi)通入氬氣，采用磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射鋁靶材，濺射區(qū)兩極之間的電壓為300-500V，直流電流為5-8A，濺射時間為1-1.5min；所述磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶源采用矩形平面磁控靶和同軸圓柱形磁控靶結(jié)合，構(gòu)成圓柱形、平面式磁控濺射靶。