[發(fā)明專利]超結(jié)器件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611055539.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108110039B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖勝安;曾大杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳尚陽(yáng)通科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司: | 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭四華 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳市南山區(qū)高新*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一種超結(jié)器件,其特征在于:
電荷流動(dòng)區(qū)包括由多個(gè)交替排列的N型柱和P型柱組成的超結(jié)結(jié)構(gòu);每一所述N型柱和其鄰近的所述P型柱組成一個(gè)超結(jié)單元;
各所述超結(jié)單元的所述N型柱和所述P型柱中的至少一個(gè)柱結(jié)構(gòu)具有摻雜濃度的縱向三分段結(jié)構(gòu),所述縱向三分段結(jié)構(gòu)為在縱向上包括底部段、中間段和頂部段,所述中間段的摻雜濃度低于所述底部段的摻雜濃度,所述中間段的摻雜濃度低于所述頂部段的摻雜濃度;具有所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的所述柱結(jié)構(gòu)在耗盡后,所述中間段和所述底部段以及所述頂部段的雜質(zhì)離子形成位于所述中間段中電場(chǎng)阱,所述電場(chǎng)阱提高殘余少子被抽取的難度,從而增加器件的反向恢復(fù)的軟度因子。
2.如權(quán)利要求1所述的超結(jié)器件,其特征在于:各所述P型柱采用填充于溝槽中的P型外延層組成,各所述N型柱由位于各所述溝槽之間的N型外延層組成。
3.如權(quán)利要求2所述的超結(jié)器件,其特征在于:各所述溝槽的頂部寬度大于底部寬度且各所述溝槽的側(cè)面呈傾斜結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求3所述的超結(jié)器件,其特征在于:各所述超結(jié)單元的所述P型柱中具有所述縱向三分段結(jié)構(gòu),且各所述超結(jié)單元的所述P型柱中至少部分具有橫向三分段結(jié)構(gòu);
所述橫向三分段結(jié)構(gòu)為在橫向上包括外側(cè)段、中間段和內(nèi)側(cè)段,所述橫向三分段結(jié)構(gòu)的中間段由所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的中間段延伸形成,所述橫向三分段結(jié)構(gòu)的外側(cè)段由所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的底部段延伸形成,所述橫向三分段結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)段由所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的頂部段延伸形成;所述橫向三分段結(jié)構(gòu)用于增強(qiáng)所述柱結(jié)構(gòu)耗盡后在所述中間段中形成的所述電場(chǎng)阱。
5.如權(quán)利要求4所述的超結(jié)器件,其特征在于:各所述超結(jié)單元的所述P型柱的所述P型外延層采用第一層P型外延層、第二層P型外延層和第三層P型外延層疊加形成,所述第一層P型外延層在所述溝槽的底部和側(cè)面生長(zhǎng)形成并將所述溝槽的底部完全填充,所述第二層P型外延層在所述第一層P型外延層所圍區(qū)域內(nèi)的底部和側(cè)面生長(zhǎng)形成,所述第三層P型外延層在所述第二層P型外延層所圍區(qū)域內(nèi)的底部和側(cè)面生長(zhǎng)形成,所述第一層P型外延層、所述第二層P型外延層和所述第三層P型外延層將所述溝槽完全填充,所述第二層P型外延層的摻雜濃度小于所述第一層P型外延層的摻雜濃度,所述第二層P型外延層的摻雜濃度小于所述第三層P型外延層的摻雜濃度;
由所述第一層P型外延層組成各所述超結(jié)單元的所述P型柱的所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的底部段和所述橫向三分段結(jié)構(gòu)的外側(cè)段;
由所述第二層P型外延層組成各所述超結(jié)單元的所述P型柱的所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的中間段和所述橫向三分段結(jié)構(gòu)的中間段;
由所述第三層P型外延層組成各所述超結(jié)單元的所述P型柱的所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的頂部段和所述橫向三分段結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)段。
6.如權(quán)利要求4所述的超結(jié)器件,其特征在于:各所述超結(jié)單元的所述N型柱中具有單一摻雜結(jié)構(gòu);或者,各所述超結(jié)單元的所述N型柱中具有所述縱向三分段結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求3所述的超結(jié)器件,其特征在于:各所述超結(jié)單元的所述N型柱中具有所述縱向三分段結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求6或7所述的超結(jié)器件,其特征在于:具有所述縱向三分段結(jié)構(gòu)的所述N型柱所對(duì)應(yīng)的所述N型外延層由第一層N型外延層、第二層N型外延層和第三層N型外延層疊加形成,所述第二層N型外延層的摻雜濃度小于所述第三層N型外延層的摻雜濃度。
9.如權(quán)利要求7所述的超結(jié)器件,其特征在于:各所述超結(jié)單元的所述P型柱中具有所述縱向三分段結(jié)構(gòu);或者,各所述超結(jié)單元的所述P型柱中具有單一摻雜結(jié)構(gòu);或者,各所述超結(jié)單元的所述P型柱中具有縱向二分段結(jié)構(gòu),頂部段的摻雜濃度小于底部段的摻雜濃度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳尚陽(yáng)通科技有限公司,未經(jīng)深圳尚陽(yáng)通科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611055539.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





