[發明專利]用于超大規模集成電路設備的經優化的波長光子發射顯微鏡

在審

• 申請號: 201611048107.9
• 申請日: 2016-10-08
• 公開（公告）號: CN106842537A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: H·德朗德
• 申請（專利權）人: FEI公司
• 主分類號: G02B21/36
• 分類號: G02B21/36;G01R31/311;G01R31/28;G01R31/265
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司72002
• 代理人: 王英,劉炳勝

1.一種用于測試集成電路(DUT)的方法，包括：

將所述DUT放置在測試器上，所述測試器具有定義光學路徑的光學布置并且具有成像器；

將光學濾波器插入到所述光學路徑中，所述光學濾波器被配置為阻擋在定義的截止波長之外的光到達所述成像器；

對通過所述光學濾波器的、來自所述DUT的光子發射進行成像；

從所述光學路徑中移除所述光學濾波器，并且在沒有所述光學濾波器的情況下對來自所述DUT的光子發射進行成像；

比較在有和沒有所述光學濾波器的情況下的所述成像，從而識別在所述DUT內的元件的具體故障類型。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學濾波器包括中心在1150nm處、具有300nm的帶寬的帶通濾波器。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學濾波器包括具有選自如下項的截止的短通濾波器：1300nm、1550nm、1800nm、1900nm和2000nm。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學濾波器包括具有在1550nm處的截止的短通。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述成像器具有在900nm處截斷的低波長。

6.根據權利要求1所述的方法，還包括將冷光圈插入到所述光學路徑中。

7.根據權利要求6所述的方法，還包括將延遲透鏡插入到所述光學路徑中。

8.一種用于對半導體設備(DUT)進行發射測試的方法，包括如下步驟：

將所述DUT安裝到發射測試器的測試工作臺上，所述發射測試器具有光學探測器；

將所述DUT電連接至電測試器；

將電測試信號施加至所述DUT，同時保持測試參數恒定；

將光學濾波器插入到所述發射測試器的光學路徑中，并收集來自所述光學探測器的發射測試信號；

將所述光學濾波器從所述發射測試器的所述光學路徑中移除，并收集來自所述光學探測器的發射測試信號；

比較在有和沒有所述光學濾波器的情況下所獲得的所述發射測試信號，以識別所述DUT中的故障電路元件。

9.根據權利要求8所述的方法，其中，所述光學濾波器被選擇為具有選自如下項的截止波長：1550nm、1800nm、1900nm和2000nm。

10.根據權利要求8所述的方法，其中，短通濾波器被選擇為提供從900nm至2200nm的波長的波譜覆蓋。

11.根據權利要求8所述的方法，還包括在將所述光學濾波器插入到所述光學路徑中之前執行如下步驟：

設置電壓Vdd，并在所述電壓Vdd處將電測試信號施加至所述DUT，同時保持測試參數恒定；

將多個光學濾波器中的一個光學濾波器序列地插入到所述發射測試器的光學路徑中，并收集來自所述光學探測器的發射測試信號，直到所有可用的光學濾波器已經被插入到所述光學路徑中；

選擇所述光學濾波器中產生最高信噪比的一個光學濾波器作為要在對所述DUT的所述測試期間被插入到所述光學路徑中的所述光學濾波器。

12.根據權利要求11所述的方法，還包括：針對多個測試電壓Vdd中的每個測試電壓，生成信噪比相對于波長的一幅圖。

13.根據權利要求11所述的方法，其中，保持測試參數恒定包括保持所述DUT的溫度恒定。

14.根據權利要求11所述的方法，其中，保持測試參數恒定包括保持所述DUT的電壓Vdd恒定。